2025年先进光刻技术研讨会圆满落幕!

半导体在线 2025-08-04 15:48
近年来,随着人工智能、大数据、物联网、5G通信等新兴技术的迅猛发展,对高性能芯片的需求呈现出爆发式增长。为了满足市场对芯片性能和功能不断提升的要求,半导体行业正不断向更小的制程节点迈进,先进光刻技术的研发和应用成为了实现这一目标的关键。
目前,全球光刻技术领域正面临着诸多挑战和机遇。一方面,传统光刻技术逐渐逼近物理极限,如何突破技术瓶颈,实现更小尺寸的芯片制造成为了行业亟待解决的问题。另一方面,新兴光刻技术如极紫外光刻(EUV)、电子束光刻(EBL)等不断涌现,为半导体产业的发展带来了新的希望。然而,这些先进光刻技术在研发和产业化过程中仍面临着一系列技术难题和成本挑战。
为促进先进光刻技术领域的学术交流与产业合作,探讨最新技术进展、工艺优化及未来发展方向,8月1日2025年先进光刻技术研讨会在苏州隆重召开,会议半导体在线主办上海芯上微装科技股份有限公司、安徽见行科技有限公司、合肥皓宇芯光科技有限公司、中国电子科技集团公司第四十八研究所、百及纳米科技(上海)有限公司赞助,来自300+光刻产业链相关科研院校、企业等代表参加了会议。
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8月1日上午议程
8月1日上午会议由百及纳米科技(上海)有限公司 周向前 首席科学家主持。
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投影光刻机的微环控技术及其应用

华中科技大学 李小平 研究员


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《光刻机中的超精密运动控制技术》

哈尔滨工业大学 刘杨 教授


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《软X射线干涉光刻技术及其应用》

中国科学院上海高等研究院 赵俊 正高级工程师


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《面向集成电路制造的导向自组装光刻技术》

复旦大学 李自力 副研究员


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《面向先进光刻的桌面级EUV激光器》

合肥皓宇芯光科技有限公司 杨皓 CTO


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《多电子束并行光刻关键技术与研究进展》

湖南大学 冯波 副教授

8月1日下午议程
8月1日下午会议由中国科学院上海高等研究院 赵俊 正高级工程师主持。
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《单纳米图形拼接精度的电子束光刻技术》

百及纳米科技(上海)有限公司 周向前 首席科学家


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《国产设备在桑德斯微功率半导体光刻工艺中的推进》

桑德斯微电子器件(南京)有限公司 

俞杰铭 中国区市场部经理


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《芯火相传——国产化合物半导体光刻机的探索与创新》

上海芯上微装科技股份有限公司 唐彩红 产品经理


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《高精度电子束光刻技术在光罩制造中的应用》

宁波冠石半导体有限公司 王兴平 总经理


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《光掩膜基板用石英玻璃的制造工艺》

湖北菲利华石英玻璃股份有限公司 樊明轩 博士


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《国产100kV生产型电子束曝光机研制进展》

中国电子科技集团公司第四十八研究所 张超 产品线经理


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《先进封装技术和设备赋能万亿晶体管AI芯片制造》

芜湖立德智兴半导体有限公司 李元雄 首席技术官


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《广微纳90nm~28nm的ArF光刻胶产品开发及DSA技术研发》

广州微纳光刻材料科技有限公司 

杨振宇 总经理助理、研发经理


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《纳米压印光刻胶开发进展》

徐州博康信息化学品有限公司上海分公司 

赵欣欣 项目经理/副高级工程师


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《从匀胶显影到光刻:半导体制造的精密接力》

中国电子科技集团公司第四十五研究所/

三河建华高科有限责任公司

匀胶显影设备事业部 王鉞淞 高级专家


本届会议还为我国光刻产业链企业打造了优秀的宣传平台,共有17家光刻产业链相关企业在会议上展示了自己的风采。
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本次研讨会不仅是技术风向标,更搭建了产学研高效对接的桥梁。在全球半导体竞争格局深度重构的背景下,中国光刻产业链正以开放协作的姿态,向技术高地发起新一轮冲锋。

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