美国制裁专家哀叹：中国光刻胶突围比预想快十年，鼎龙股份的ArF产线只是开始，真正的大棋还在后面

“中国光刻胶的自主化，从来不是技术问题，而是时间问题。”一位日本光刻胶企业高管曾在内部会议中坦言，“但如今，时间似乎站在了他们那边。”

2025年10月，中国首个EUV光刻胶标准正式立项，标志着中国半导体材料战役进入新阶段。而在这场战役中，鼎龙股份的潜江工厂里，一条年产300吨KrF/ArF高端光刻胶的产线正悄然加速——它的试运行时间，定在了2025年第四季度。

“如果EUV光刻胶的国产化率仍是0%，那我们就在ArF领域撕开一道口子。”一位鼎龙股份研发负责人如是说。

中国光刻胶厂商的生存逻辑，早已从“追赶”变为“破局”：彤程新材通过收购北京科华，成为国内KrF光刻胶最大供应商；晶瑞电材以紫外宽谱光刻胶拿下国内市占率第一；南大光电跳过G线、I线，直接攻克ArF光刻胶，成为国内首个通过验证的企业。

而鼎龙股份，这个曾经的“后来者”，仅用两年完成从研发到订单落地的闭环，其浸没式ArF光刻胶已切入65-7nm先进制程，直接对标国际巨头。

光刻胶的竞争，本质是技术路径与产业链自主度的较量。全系列布局派：彤程新材、晶瑞电材通过收购快速扩张，覆盖从I线到KrF的全系列产品；高端突破派：南大光电、鼎龙股份选择自研攻坚，直指最高端的ArF光刻胶。但鼎龙股份的野心不止于此——它构建了有机合成、高分子合成、纯化、配方开发四大技术平台，实现从关键材料到光刻胶的全流程国产化。

“没有树脂、单体、光敏剂的自主，光刻胶只是空中楼阁。”一位行业专家点破关键。

2025年，中国光刻胶战场从“技术突破”转向“产能厮杀”：· 南大光电已建成年产25吨ArF光刻胶产线；鼎龙股份潜江一期产能达30吨，且300吨产线投资进度过半。

更值得注意的是，鼎龙股份2025年前三季度研发费用率达14.41%，为行业最高。高研发投入背后，是其对“材料平台型企业”的定位——光刻胶只是棋盘一子，CMP抛光垫、临时键合胶、半导体封装PI等高端材料同步布局，形成协同攻势。

2025年前三季度，鼎龙股份半导体业务营收占比升至57%，CMP抛光垫单季度营收创下3.2亿元新高。这意味着：在光刻胶尚未盈利的阶段，半导体材料已成为业绩增长引擎。而其50.82%的毛利率，不仅超过同行，更印证了高端材料的溢价能力。

与此同时，安集科技在抛光液领域的领先地位，正面临鼎龙股份的强势挑战——后者不仅实现抛光垫原料自主制备，更布局全品类抛光液及清洗液，甚至拿下“抛光液+清洗液”组合订单。

2025年11月1日，鼎龙股份公告变更募投项目，将资金转向抛光垫和抛光液所需磨料产能建设。

新项目将形成：4000吨预聚体、200吨微球发泡、40万片大硅片抛光垫、80吨研磨粒子这已不仅是产能扩张，而是对半导体材料全链条的重新定义。

中国半导体材料的崛起，不是单一产品的突破，而是体系化的胜利。当美国仍在争论制裁效果时，中国光刻胶企业已从技术追赶到产能布局，从单一产品到平台化延伸——鼎龙股份的潜江产线，不过是中国半导体材料长征中的一个缩影