液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!

旺材芯片 2026-06-08 16:49






液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图1

关注公众号,点击公众号主页右上角“ · · · ”,设置星标,实时关注旺材芯片最新资讯


在单芯片功耗从1000W向1400W(如NVIDIA Blackwell Ultra B300)甚至3600W跨越的背景下,液冷技术不仅成为支撑高密算力的核心底层,更在技术架构、材料科学和制造工艺三个层面上衍生出深刻的变革。

一、宏观市场态势与产业链资本重构

1. 智算液冷宏观市场与能耗结构

液冷技术的全面普及受到了算力需求和能源监管的双重驱动。典型智算中心的能耗分布中,服务器等IT设备约占总能耗的80%,冷却系统占15%,配电及照明占5%。采用液冷技术不仅可实现更高的计算密度,还能相比风冷数据中心降低约30%的整体能耗。

2. 资本棋局:2025至2026年全球液冷并购与重塑

液冷技术正从一种“配套降温设备”跃升为数据中心运营商和基础设施巨头的“核心战略资产” 。这一属性转变引发了2025至2026年间全球暖通空调(HVAC)、算力基础设施及电源管理巨头对液冷创新企业的整合浪潮。

国际巨头如施耐德电气(Schneider Electric)通过收购直接芯片液冷厂商Motivair 75%的股权,补全了从“电网到芯片”的交付能力;维谛技术(Vertiv)则斥资95亿人民币通过连续收购液冷资产,并以12.5亿美元(包含10亿现金及2.5亿业务自动化资产)收购系统冲洗与水处理专家PurgeRite,建立了针对智算中心的闭环冷却方案。此外,传统HVAC巨头阿姆斯壮(Armstrong)收购DDC Solutions与负压液冷先驱Chilldyne,丹佛斯(Danfoss)收购LiquidStack的液冷业务,均标志着产业壁垒正向兼具芯片级热控与高可靠运行能力的系统集成商集中。


二、技术架构演进:从被动改造到智能化芯片级热控

1. 协同设计与微通道盖板(MCL)

冷板系统已摆脱针对传统风冷机箱进行后期改造的局限,步入芯片层面的“协同设计”(Co-design)时代。芯片厂商将微流体通道直接整合于芯片封装或中介层中。

在算力芯片功耗突破2.3kW的节点,行业正加速引入微通道盖板(Micro-Channel Lid, MCL)技术,预计该技术最快将于2027年下半年进入规模化量产阶段。作为封装级散热组件,MCL直接集成于芯片封装盖内。通过将流道内部结构缩小至微米级,传热路径大幅缩短,从而能够以近乎完美的对流效率在发热源头捕获热量。

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图2

2. 射流冲击与精密喷淋架构

为了应对单芯片局部热通量超100W/CM2的极端情况,传统冷板内因层流(Laminar Flow)导致的散热迟滞亟待解决。喷淋式液冷与射流冲击(Jet Impingement)技术在此背景下取得了显著进展:

射流冲击冷板:该方案通过微型喷嘴将高速冷却液直接喷射至发热核心,使介质流动由慢速稳流(层流)强制转变为快速湍流,实现了高低温介质的快速混合,有效消除了芯片表面的热温差。典型产品如浪潮信息的“太阳花”式射流冷板,其表面温差分布极为均匀。

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图3

LiquidJet振动式冷板:作为射流冷板的颠覆性变体,Frore Systems开发的LiquidJet在搭载1400W NVIDIA Blackwell Ultra的散热测试中,在入口温度40℃下实现了高达600W/CM2 的局部热点功率密度承载力,比传统冷板高出2倍,同时散热效率提升50%,循环压降降低4倍,大幅节省了泵送功耗。

精密喷淋式液冷:将绝缘介质(通常与单相浸没液冷介质相同)通过内部压力直接喷洒至IT发热器件上,整个过程不发生相变,通过加强强制对流换热来取代大容量浸没。尽管存在维护复杂性,但其具备承重小、介质充注量低及支持定向散热等独特优势。

3. 负压液冷:本质防漏安全架构

传统的正压液冷系统始终面临管路破损导致电介质泄漏的潜在威胁,而由Chilldyne等先驱推动的负压液冷技术从物理机理上解决了这一安全痛点。

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图4

该系统利用真空泵与液体泵联合作用,使循环管路内部维持低于外界大气压的负压(真空)状态。其技术优势与物理限制表现为:

泄漏吸入机理:一旦管路、接口或冷板发生开裂,内部介质不会向外喷溅,反而会将外界空气吸入回路中,从而保障了周边电子元器件的绝对安全。

抗气蚀与相变限制:负压状态下水的饱和温度(沸点)会显著降低。例如在50℃的工作工况下,若绝对压力降至4英寸汞柱,水便会直接发生相变沸腾。这易导致循环泵发生严重的气蚀损伤,因此系统内部必须设计极为精准的真空控制阀,并配备专用的防气蚀循环泵。

4. 嵌入式热智能(Thermal Intelligence)系统

2026年的前沿部署中,冷板回路已深度嵌入数十个微型物理传感器,实时采集温升、压差、流量及冷却介质的电导率与化学成分数据。

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图5

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图6

这些庞大的实时数据流直接汇入数据中心基础设施管理系统(DCIM)和AIOps平台,构成了数据中心的主动式温度防御机制:

故障预测:提前数周感知循环泵微磨损、流道结垢或管路微渗漏。

动态任务迁移与AI算力调配:当集群某些机架逼近设计热极限时,系统会自动进行业务负荷迁移,或通过热能API(Thermal APIs)直接与AI训练调度器联动,自主减小大模型训练的批次大小(Batch Size)或挂起低优先级任务,实现无人工干预的算力与散热协同控制。

三、材料科学突破:环保工质替代与极端热流界面

1. 环保限制下的低GWP氟化液与无PFAS工质替代

长期以来,浸没式液冷和两相冷板技术高度依赖3M Novec系列等含氟电子化学品。然而,全球范围内的环保壁垒正在全面封杀这一材料体系:

监管法案落地:美国环保署(EPA)依据《AIM法案》要求自2025年1月1日起,数据中心舒适空调系统的制冷剂GWP值须低于700,工业制冷及部分数据中心冷却设备的合规红线也定于2026年1月1日。欧盟F-Gas法规规定到2030年须削减79%的氟化温室气体排放,而欧盟REACH法规更提出针对近万种全氟和多氟烷基物质(PFAS)的通用禁用限制,决定预计将在2026至2027年间敲定。

产业链介质分化路线3M公司于2025底彻底终止了所有PFAS化学品的生产,倒逼行业向新型替代介质转型

2. 极端热流界面材料(TIM)的演进

在高瓦特密度芯片中,传统的导热硅脂已无法克服微观接触面的粗糙度障碍。为了削减接触热阻,液态金属、碳纳米管和金刚石铜等新型热界面材料正在加速产业化落地:

液态金属(Liquid Metal, LM):以镓铟合金为代表的LM在常温下呈液态,具有极高的热导率与微观填充性。实测数据表明,使用液态金属能将超级芯片界面温差有效控制在23℃,相比之下石墨烯掺杂硅脂温差为38℃,而添加金属纳米颗粒的传统热导膏界面温差高达62℃

碳纳米管(Carbon Nanotubes, CNTs)CNTs是解决金刚石半导体高热流密度的理想热界面材料。

金刚石铜复合材料(Diamond-Cu):其可与3D封装、液冷技术深度融合,形成“材料-结构-系统”的闭环散热方案。其主要挑战在于制造成本高昂,单价达传统铜基热沉的10至15倍,推广高度依赖于规模化生产进程。

四、制造工艺突围:微流道精密加工与气密性规范

1. 微通道液冷板(MLCP)的三大精密加工工艺

微通道液冷板由于流道极度细微(通常在30-150um之间),传统的CNC机械加工极易产生毛刺且效率极其低下,业界正逐步分化为以下三大制造工艺:

精密蚀刻工艺:通过在纯铜或铝基板上旋涂1-3um厚的光刻胶并经曝光、显影,利用化学溶液(如酸性硫酸-双氧水体系)对裸露金属实施精密化学剥蚀。该工艺的通道公差可控制在±5um级,平面度≤0.02mm/m,且单批次可同步加工数百块基板,是GB300等大批量冷板流道的主流选择。

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图7

微铣削与铲齿工艺:铲齿依靠专业切削工具从整体金属块上剥离出翅片,属于“一体成型”,彻底消除了接触热阻;微铣削则采用直驱CNC和0.1-0.5mm的超细硬质合金刀具直接切削出变截面或复杂流道,尺寸精度达±3um,但铣削加工效率较低,通常每加工2至3块板即需更换刀具。

绿激光纯铜3D打印工艺:传统红外激光在铜表面的反射率极高,而新型纯铜绿激光SLM(选择性激光熔融)工艺将激光吸收率提升至40%以上。采用15-23um的纯铜粉末和20um的层厚,能够打印出壁厚仅50um、几何结构极其复杂的无焊缝一体化冷板。经磨粒流抛光处理后,其内腔粗糙度可降低至Ra<1.6um,能显著提升整体换热效率。

2. 真空扩散焊(Diffusion Bonding)焊接制程

在底板与上盖板的组装封固中,传统的钎焊极易导致钎料溢出,进而造成微通道局部堵塞,成品率难以提升。因此,行业目前已全面向真空扩散焊工艺靠拢:

在超高真空环境中,将贴合的纯铜或铝合金(如6063/6061合金)加热至600-800℃,并在外部施加极高的均匀轴向机械压力。在此状态下,焊接界面的原子会相互发生跨界面的固体扩散与再结晶,最终形成分子级结合,其接头机械强度和抗腐蚀性能几乎等同于基体材料,且内部通道完全无污染。

3. 表观改性与核态沸腾强化工艺

在两相冷却系统中,气泡的形成速率、核心点密度及脱离阻力是决定沸腾换热效率的决定性物理量。通过微纳表观改性,能够使冷板沸腾表面具备极高的传热性能:

飞秒激光微纳结构化:利用高频飞秒激光在不锈钢或铜表面烧蚀出具有超高一致性的周期性微槽、微孔或微柱结构。实验验证,在高温高压循环腐蚀测试中,微孔结构可提供极其丰富的成核空穴,展现出极高的气泡初始生成速率,而微槽结构则能提供最佳的液体输送通道,临界热流密度(CHF)提升最为显著。

多孔涂层与金属粉末烧结:在流道表面烧结微颗粒金属粉末、沉积多孔金属泡沫或电镀微腔,能够成倍提高成核沸腾表面的汽化核心点数量。通过多孔翅片或多孔肋的复合设计,能够使冷板的局部核态沸腾换热系数提升至普通光滑冷板的数倍以上。

4. 气密性验证与检测规范

作为核心的质量屏障,出厂检测执行严格的规范流程:

静水压破坏测试:必须在1.5倍正常工作压力(或者直接进行 25 bar 的极限恒压测试)下无塑性变形或焊缝撕裂。

高灵敏度氦质谱检漏:通过高真空腔吸枪对焊缝微裂隙进行氦气追踪,气密检测漏率指标必须低于10-5 mbar10-9 mba

平整度控制:采用搅拌摩擦焊(FSW)及微加工技术,确保冷板安装接触面的物理平整度≤0.02mm

五、系统集成、规范适配与演进挑战

1. NVIDIA Blackwell Ultra (GB300) 的极限系统指标

进入2026年,NVIDIA GB300 等主流硬件平台的系统架构已发生了根本性迁移。GB300 彻底告别了分散的独立热沉设计,转而采用覆盖整块大算力托盘的主动一体化“冷板回路”(Cold Plate Loop)。

这一变化对液冷系统提出了严苛的物理限制:

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图8

2. 标准化规范互换性与高标准辅件

为了应对大规模智算中心的快速维护需求,液冷核心接插件和配管已从以往的客制化走向了标准的全球通用对齐:

通用快换接头(UQD / BMQC)标准:采用303/316不锈钢阀体与EPDM三元乙丙密封圈,在满足 OCP 开放式架构标准规范的前提下,具备单手插拔与双阀互锁(防止开阀前断开、断开前未闭阀)的自锁结构。对于大容量叶片服务器,广泛配备具备多向浮动和径向自纠偏功能的盲插(Blind-Mate, BMQC)快速接头(如MQD03系列,专为Blackwell架构定制)。

金属波纹柔性过渡(Bellows):锐捷网络等厂商通过金属波纹管柔性连接与微结构冷板复合方案,攻克了800G/1.6T高速光模块在液冷环境下的散热及盲插应力应变难题,使光模块液冷系统能够承载极高的盲插形变应力。

UL94 V0 阻燃级别特种软管:系统主配管(如三元乙丙橡胶EPDM 软管,代表型号如 Danfoss Boston Royal EHW194)除具备极佳的弯曲抗扭、耐125-150℃高温特性外,还必须通过行业最严苛的UL94 V0 等级防火防爆测试,以防范数据中心内部潜在的火灾连锁事故。

六、结论与行业前瞻策略

全球智算中心在2025至2026年间迎来了散热架构的剧烈更迭,液冷系统已彻底由后置的辅助外设跨越为数据中心、电源系统与硅片封装的核心“热神经网络”。微流体通道直接进入晶圆封装的Co-design协同设计将逐步跨入量产,而环保无氟、无PFAS介质的交替,正彻底重构化学清洗与介电工质的供应链格局。

针对当前的产业转型期,行业生态相关厂商应确立以下战略应对机制:

1.深度布局晶圆级微通道盖板(MCL)技术开发:冷板制造企业需加速推进超精细加工制程研发,加强与头部芯片封测厂的深度合作,提前卡位MCL这一封装级核心散热组件的技术窗口期。

2.重整绿色化学供应链防范PFAS合规风险:浸没液冷和两相制冷剂研发应坚决转向无PFAS的合成油及GWP极低的DAISAVE氟素体系,避开未来潜在的 REACH 与 EPA 法规红线。

推动纯铜绿激光3D打印与扩散焊等工艺路线量产化:持续精进高温扩散焊和先进高平整FSW等精密成型技术,提升氦检良率,降低微通道流道阻塞率,从而在GB300时代的复杂冷板制造中维持核心溢价能力。


来源:热能工匠


专心       专业        专注

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图9

液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图10


液冷发展新方向,技术+材料+工艺,一次讲透!图11

声明:内容取材于网络,仅代表作者观点,如有内容违规问题,请联系处理。 
more
「AI 同事」,把人干抑郁了
人形机器人最难的不是走路,而是手脚并用, TeleAI提出OASIS实现仿真数据和模型闭环
AI数据中心爆发,功率半导体大涨
快手系AI芯片公司再融资数亿,销量近十万颗,视频压缩性能超英伟达丨早起看早期
NI测试测量技术研讨会苏州站:解锁AI+测试通关密码
AWS 的老身份和新角色:做 Agentic AI 时代的基础设施
求职党必看!我用豆包AI,3分钟自制专属高级简历生成器
华强北内存降价,AI不和我们抢内存了?
Karpathy投了一家AI记忆公司,撞名DeepSeek Engram记忆架构
霍尼韦尔发布“卓越随行”飞书版,用AI+协同平台连接生产和办公
Copyright © 2025 成都区角科技有限公司
蜀ICP备2025143415号-1
  
川公网安备51015602001305号