
严格统计周期:2026年7月30日—8月5日
一、本周核心结论
1. AI数据中心已成为本周最明确的功率半导体需求主线。安森美预计2026年AI数据中心相关收入将同比增长一倍以上,并获得中国服务器电源客户的平台项目,同时发布覆盖40V—650V的GaNEXUS氮化镓产品组合;英飞凌披露已签署或正在洽谈多项AI客户长期产能预留协议。AI电源需求正在同时拉动硅MOSFET、SiC、GaN、控制器和电源模块,而非仅利好单一材料。
2. 8英寸SiC竞争开始进入“工艺平台移植—客户认证—规模量产”阶段。基本半导体与汉磊科技签署战略合作协议,将共同开发并推进8英寸SiC晶圆量产,应用目标包括新能源汽车和AI数据中心。实际成本优势仍取决于外延缺陷、晶圆翘曲、器件良率和产能利用率。
3. GaN正从快充进一步进入AI电源、电机与工业应用。安森美推出GaNEXUS产品平台,英诺赛科发布集成驱动器、两颗700V GaN器件和自举二极管的半桥产品,面向220V变频家电和BLDC电机。商业化节奏仍呈分层:数据中心电源和消费电源较快,机器人与电机控制处于导入期,汽车主驱则需要更长验证。
4. AI光互连为InP及相关MOCVD设备带来独立于功率器件的新增长点。Veeco获得LUMINA+ MOCVD系统订单,用于制造数据通信所需的InP激光器;AIXTRON第二季度订单同比增长81%,主要由光电子需求推动,而功率电子设备需求仍偏弱。
二、表1:本周要闻概览

三、按区域与技术路线分类
1. 全球:硅基功率半导体
硅基MOSFET、IGBT及控制器仍是数据中心电源、工业电源和新能源汽车中成本敏感环节的基础。安森美与英飞凌本周披露的AI客户进展均属于多技术平台方案,并非全部由SiC或GaN贡献。头部IDM的竞争优势正从单颗器件参数,转向硅、SiC、GaN、驱动器和控制器的组合交付。
新能源汽车市场恢复仍不均衡。X-FAB汽车收入同比仍承压,但汽车订单和预订情况有所改善,说明汽车功率芯片库存调整接近后期,但尚未形成所有厂商同步复苏。
2. 全球:SiC
全球SiC的两条主线是数据中心设计导入和8英寸制造平台迁移。X-FAB获得3项数据中心SiC设计导入,说明SiC代工需求正从汽车扩展到服务器电源;基本半导体与汉磊科技的合作,则反映器件和模块厂商开始利用专业晶圆厂加快8英寸导入。
8英寸晶圆理论上可提高单片晶圆的芯片产出,但其经济性并非自动成立。晶圆缺陷、边缘良率、外延均匀性、翘曲和设备折旧均可能抵消面积优势。因此,后续应重点跟踪连续批次良率、正式客户认证和单位合格芯片成本。
3. 全球:GaN
安森美的GaNEXUS覆盖40V至650V,目标包括AI数据中心、机器人和工业基础设施,表明大型IDM正在以完整平台而非单款器件进入GaN市场。其优势在于可同时提供控制器、驱动、电源管理和硅/SiC器件,短板则是GaN装机基础仍弱于传统硅产品。
AIXTRON披露功率电子设备需求仍然偏软,说明GaN和SiC器件应用增长尚未全面转化为新一轮外延设备扩产。短期增长更可能来自现有产线利用率提升、客户导入和产品组合优化。

图1 GaN由快充向AI电源、工业控制和电机应用扩展
4. 全球:其他化合物半导体
Veeco的InP MOCVD订单反映AI数据中心需求正在向光通信链条扩散。InP主要用于高速激光器和光模块,GaAs广泛用于VCSEL、射频和部分光电应用。相关材料的核心壁垒包括外延层厚度控制、晶格失配、缺陷密度以及MOCVD或MBE跨批次稳定性。
本周未发现目标公司中具有量产意义的Ga₂O₃新进展。氧化镓虽具有超宽禁带优势,但热导率、p型掺杂、衬底尺寸和可靠性仍限制其近期规模商业化。

图2 AI光互连、功率器件与外延设备需求呈现不同增长节奏
5. 中国:SiC与GaN
基本半导体与汉磊科技合作,是本周中国SiC链条中最明确的制造进展。合作模式有助于基本半导体减少自建全部晶圆产能的资本压力,同时获得8英寸工艺平台和未来产能保障;但客户仍需要完成器件、模块和系统级认证。
英诺赛科的新型700V集成半桥显示中国GaN企业正从分立器件向集成化功率方案扩展。通过集成驱动器、上下桥GaN器件及自举二极管,可减少外围元件和PCB面积,但性能与可靠性仍需通过客户量产数据验证。
四、进入验证或量产阶段的技术进展
1. X-FAB数据中心SiC项目
X-FAB本周获得3项数据中心SiC设计导入,并表示原型开发活动增加,说明相关产品已进入流片、样品或客户验证阶段。对竞争格局的影响是,专业代工厂可为没有自有SiC晶圆厂的器件设计商提供更低资本门槛的商业化路径。
2. 基本半导体8英寸SiC
基本半导体与汉磊的合作目标明确包含工艺平台开发、产能爬坡和量产,但公告尚未披露首批量产时间、客户名称和良率。当前应定义为量产准备及工艺协同阶段,尚不能等同于已经形成大规模收入。

图3 8英寸SiC从工艺平台开发到量产爬坡的关键路径
3. 英诺赛科700V集成GaN半桥
ISG624x已开放样品,属于客户送样阶段。通过集成驱动器、上下桥GaN器件及自举二极管,可减少外围元件和PCB面积,有利于变频家电、风机、泵及小型电机控制,但汽车和高可靠性工业应用仍需更长认证周期。
4. Veeco InP MOCVD订单
Veeco的客户订单代表设备已经进入生产部署,而不是单纯展示。其直接受益对象是InP激光器和光模块外延制造,间接受益于AI数据中心高速互连从800G向1.6T及更高速率演进。
五、主要应用市场影响
1. 新能源汽车
新能源汽车仍是SiC最大的应用市场,但本周数据反映复苏具有区域和客户差异。X-FAB汽车业务尚未完全恢复,基本半导体则继续为新能源汽车准备8英寸制造能力。短期内,800V车型、主驱逆变器和高压充电系统仍支持SiC需求,但车企降本可能推动部分中低端车型继续采用IGBT或硅与SiC混合方案。
2. 智能电网与储能
英飞凌表示电网基础设施投资形成需求支持。智能电网、储能和固态变压器需要更高耐压、更低开关损耗的器件,为高压SiC创造第二增长曲线;但硅IGBT凭借成本、可靠性和成熟供应链,短期仍会保留大量市场。
3. AI数据中心
AI数据中心是本周最强的新增需求来源。安森美获得服务器电源项目并推出GaN平台,英飞凌锁定长期产能协议,X-FAB获得SiC设计导入,Veeco则从InP光互连侧受益。
• 高压交流输入和UPS:硅MOSFET与SiC承担高压、高效率功率转换。
• 机架和板级高频电源:GaN依靠高频率与高功率密度降低磁性元件和散热体积。
• 热插拔、控制与保护:硅功率及模拟芯片承担大量辅助功能。
• 高速光互连:InP、GaAs及相关外延工艺受益于800G、1.6T及后续高速模块。

图4 AI数据中心同时拉动SiC、GaN与InP三条需求链
六、表2:重要技术进展或新产品发布

七、政策、监管与供应链影响
严格统计期内,未检索到新的、已经正式实施且直接针对SiC、GaN、GaAs、InP或Ga₂O₃的重大出口限制。
本周更值得关注的是客户提前锁定产能。英飞凌的多年协议和安森美数据中心订单表明,AI客户正在通过长期采购降低功率器件供应风险。这将改善头部厂商的收入可见度,但也可能挤压未签署长期协议的汽车、工业及中小客户产能。
另一方面,AIXTRON功率电子设备需求仍偏弱,说明此前SiC和GaN扩产形成的设备产能尚未完全消化。若终端需求增长低于预期,衬底、外延和晶圆厂仍可能面临价格下降及产能利用率压力。
八、表3:竞争格局快照

注:市场份额数据分别属于2023年和2024年,且统计对象包括衬底收入、功率器件收入等不同口径,不能直接相加。
九、三大最具战略意义的趋势
趋势一:AI正在成为SiC、GaN和InP的共同需求入口
AI数据中心不是单一功率器件机会。SiC负责高压和高效率变换,GaN负责高频和功率密度,InP负责高速光互连,硅功率及控制芯片则承担大量保护、管理和辅助功能。
对投资者,应区分已经获得平台项目或长期协议的企业与仅发布AI概念产品的企业;对研发团队,功率器件、磁性元件、散热和控制算法需要联合优化;对业务决策者,应优先进入服务器电源厂商、云服务商和光模块客户的联合验证体系。
趋势二:8英寸SiC进入良率与商业交付竞争
8英寸SiC的评价标准正在从“是否建成产线”转向“能否稳定量产”。基本半导体与汉磊的合作,以及X-FAB数据中心设计导入,分别代表制造端和客户验证端的推进。后续重点跟踪连续批次良率、外延缺陷密度、器件尺寸、客户认证、单位合格芯片成本和实际产能利用率。
趋势三:GaN由分立器件转向集成平台
英诺赛科将驱动器、上下桥GaN器件及外围功能集成,安森美则推出跨电压产品平台。GaN竞争将逐步从导通电阻和耐压参数,升级为驱动、保护、封装、EMI和客户系统支持能力。
对投资者,应关注样品转量产的周期和客户结构;对研发团队,应重点验证短路耐受、动态导通电阻、热循环及EMI;对业务决策者,近期优先选择能够显著减少散热器、磁性元件或PCB面积的应用场景。
十、后续重点关注方向
• SiC衬底与8英寸制造:Wolfspeed、天岳先进、天科合达、Coherent、GlobalWafers、基本半导体与汉磊的实际量产节奏。
• SiC器件和模块:ST、onsemi、Infineon、ROHM、基本半导体、时代电气、比亚迪半导体和斯达半导的AI及车规客户定点。
• GaN:英诺赛科ISG624x客户验证、onsemi GaNEXUS平台订单,以及Navitas在AI数据中心的放量。
• InP/GaAs:Veeco订单交付、IQE和Coherent的AI光互连订单、AXT衬底需求及稳懋的光电代工进展。
• 设备端:AIXTRON和Veeco的MOCVD订单能否由光电子扩散至新一轮功率器件产能投资。
• Ga₂O₃:衬底尺寸、热管理、p型掺杂和长期可靠性;在出现稳定客户验证前,不宜仅根据禁带宽度判断商业化速度。

