下一代光刻技术(EUV & NIL)缺陷预测技术路线图

半导体产业研究 2026-08-13 18:07
下一代光刻技术(EUV & NIL)缺陷预测技术路线图图1


下一代光刻技术(EUV & NIL)缺陷预测技术路线图图2

报告来源:Chien, Jean, and Eric Lee. “From Lithography to Nanoimprint: Physics-Based, Data-Driven, and Hybrid Frameworks for Defect Prediction in Advanced Patterning Technologies.” Electronics 15, no. 15 (2026): 3355. https://doi.org/10.3390/electronics15153355.
       







下一代光刻技术(EUV & NIL)缺陷预测技术路线图图3
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