AR波导量产线敲定设备,释放出两大信号

行家说Display 2026-09-04 11:24

2026 年,中国台湾ODM大厂今国光学(Kinko Optical)官宣,采用Beneq C2R™等离子体增强空间ALD系统,用于AR衍射光波导的大规模量产,为合作伙伴生产高折射率、低损耗的间隙填充光学镀膜。

老牌光学厂商为AR波导量产线选定ALD设备,释放出两大信号:其一,ALD的应用边界正从半导体前道加速延伸至AR光学场景;其二,ALD已切入衍射波导量产的核心瓶颈环节。




事实上,ALD(原子层沉积)已贯穿AR制造多个关键环节:
  • 光波导镀膜:凭借原子级保形沉积能力,ALD可沿光栅沟槽沉积高折射率薄膜,实现厚度均匀、界面平整的致密膜层,精准调控折射率,提升光栅耦合效率,降低光损耗,并改善色偏、杂散光等行业共性问题。
  • Micro LED芯片侧壁钝化:Micro LED刻蚀后的侧壁缺陷是漏电流的主要来源,ALD致密无针孔的钝化薄膜可修复侧壁缺陷、抑制漏电流,提升外量子效率与器件稳定性;同时还可制备DBR反射叠层与水汽阻隔膜,优化光取出效率。
  • Micro OLED薄膜封装:Micro OLED蒸镀发光材料后,有机层对水汽和氧气极度敏感,ALD可沉积致密无针孔的阻隔薄膜,是薄膜封装(TFE)的关键工艺。
  • 光机与整机防护:ALD致密阻隔薄膜,可对光波导镜片、光学元器件实现防潮防护,提升 AR 眼镜整机耐温耐湿性能。
但需客观认识到,当前全球ALD主要面向半导体先进制程,AR光学专用ALD是一个小体量,仍处于发展初期卡的细分赛道,且具备成熟量产能力的设备厂商仍属少数。
基于此背景,9 月8日【Mini LED 背光画质进阶与 Micro AR 眼镜趋势分析会】,特邀到青岛思锐智能科技股份有限公司副总经理陈祥龙,带来《ALD助力AR发展,从微显示到光波导》的主题分享,现场将围绕Micro LED 工艺量测、AR 衍射波导片检测两大产业痛点展开深度交流。
AR波导量产线敲定设备,释放出两大信号图2
据了解,思锐智能的ALD设备已覆盖Micro LED光机、Micro OLED光机、光波导等工艺环节,且多款设备已完成交付,获得实际订单,并导入企业产线。
  • 光波导领域,思锐智能Beneq C2R™ 等离子体增强空间 ALD系统已获Kinko商业订单。
  • Micro LED光机领域,思锐智能是少数推出Micro LED专用ALD设备的厂商,去年已获Micro LED头部客户追加订单; 2026年 进一步取获得5家Micro LED客户 的量产设备订单。
  • Micro OLED光机领域,据调查国内外知名micro OLED厂商已将其设备用于产线。
此外,思锐智能的AR领域能力主要通过其全资子公司芬兰Beneq实现;Beneq深植于ALD 技术发源地芬兰,1990年已推出首台ALD镀膜设备,2018年被思锐智能收购;今年6月,思锐智能还顺利完成IPO辅导验收。



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