探新品、看技术、寻合作！2026湾芯展新一批展商新品亮相

■可自定义显微系统

■自动突显瑕疵的“搜索照明”

■突显真实表面状态的“Advanced Optical ·Shadow Effect Mode”

■瞬间自动判别差异的“异常识别功能”

■自动记录、再现观测及测量结果的“快速重播”

■搭载白光干涉功能

■超越激光显微镜的限制，以三重扫描方式应对

■一台即可测量 纳米 / 微米 / 毫米

■一台即可了解希望获取的信息

■最高分辨率0.01 nm

载网是透射电镜最常用的消耗品，其主要作用是在电镜观察时承载被检测样品。新品依托自研激光精密加工工艺，攻克传统TEM 微栅铜网精度不足、孔径不均、孔缘毛刺、通孔不良等痛点，为透射电镜（TEM）科研表征提供高品质国产样品承载解决方案，主要应用在纳米材料长时高分辨成像与EDS 元素检测与透光电磁屏蔽基底 。

■CS5891超纯镀铜添加剂适用于纵横比1:4‑1:10通孔的直流电镀工艺，可保障优异的电镀均匀性；所得镀层杂质含量低，退火后结晶状态良好；镀液维护与补加操作简便，可借助CVS分析实现有效的药水管控。

■瑞士万通IONIC自动电位滴定仪是一款集成了智能加液、高精度信号采集及现代化操作界面的滴定分析平台。它支持酸碱、氧化还原、沉淀及络合等多种滴定类型，配备Dosino加液器与专用表面活性剂电极，能够满足从常规质控到复杂科研应用的分析需求。

■在半导体行业中，湿电子化学品（如电镀液、蚀刻液）的成分控制直接影响芯片制造良率。

■IONIC电位滴定仪凭借其高灵敏度和良好的重现性，被用于电镀液中添加剂浓度的精确测定、蚀刻液组分比例分析，以及超纯水、高纯试剂中微量酸碱含量的质控检测。其高度自动化的流程减少了人为误差，为半导体制程的高精度分析需求提供了可靠保障。

■设备采用高速往复走丝技术，走线稳定、耗材利用率高、大幅降低生产成本。

■切口平整、损耗更低、成品品质优异，可高效加工硅材、碳化硅、蓝宝石、精密陶瓷等硬脆材料，轻松适配薄片、大尺寸、异形切割需求。

■用于RTP设备上、固定晶圆的石英固定座。

■物体爆炸时抑制碎片，减弱冲击波，阻止燃烧。主要依靠高强度芳纶纤维布多层缝制，通过纤维的拉伸来阻挡和吸收破片的动能，并防止爆炸引发燃烧。包裹在气体管路上，增加一道附加防护，以降低爆炸带来的风险。

■用于CVD设备控制电信UV测试系统。

■用于碳化硅外延设备。

■用于刻蚀及离子注入设备的超高真空分子泵设备。

■用于刻蚀、薄膜、扩散工艺的晶圆生产设备上的真空泵系统设备。

■本设备是专为面板级封装（FOPLP）开发的超高速固晶平台，核心产能可达 40K UPH，约为市面头部竞品 13K UPH 的三倍，大幅提升生产效率；可在 600×600mm 超大面板全域，稳定实现 ±5μm 贴装精度，兼顾高产能与工艺可靠性。

■设备采用独创架构，支持 8 英寸 / 12 英寸双晶圆进料，搭配多头键合系统。同一平台兼容正装、Flip‑Chip 倒装两种贴装工艺，并且可同步完成多种不同类型芯片贴装，该能力为行业独有。

■整机面向 600×600mm 大面板规格定制开发，适配先进扇出面板封装的量产需求，能够有效简化产线流程，帮助客户实现降本增效，满足新一代封装大批量生产的应用场景。

■电子级羟胺 50%水溶液的主要用途是作为超高纯度的精密清洗剂，用于半导体芯片（尤其是先进制程）的制造过程中高效且选择性地去除刻蚀和离子注入后的聚合物残留。

■电子级NMMO 50%水溶液的主要用途是作为核心成分，配制用于半导体芯片制造（特别是先进制程）中的超高纯度光刻胶剥离液和精密清洗液，以及2-7纳米钨基芯片蚀刻机。

■在半导体芯片制造冲，作为一种高效、关键的还原剂和清洗 / 蚀刻添加剂，主要用于去除光刻胶和清洗晶圆表面。

■主要作为超高纯湿电子化学品中的稳定剂/金属螯合剂和芯片制造中的清洗剂添加剂。

■为满足半导体客户“高寿命、高精度、高表面质量”的多重要求，杭州芯研科半导体材料有限公司正式推出新型树脂结合剂倒角砂轮系列产品，通过金刚石表面预处理与自研改性树脂结合剂两大核心技术，使树脂结合剂砂轮的寿命达到金属结合剂同等水平，同时保留树脂结合剂在加工质量上的天然优势，显著提升加工品质。

■ORION好利旺冷水机作为工业用液体温控器，采用オリオン自主研发的环保冷媒控制方式，高精度系列实现±0.01℃温控,冷却范围1.3~57kW。

■FCMC是一款混合动力冷水机，搭载自然冷却与强制冷却双模式，节能效能优异；采用封闭式冷却液回路，保障介质洁净；机身采用紧凑 V 型结构搭配模块化组合设计，制冷覆盖功率区间 55~1200kW。

■RKE- RA系列为无氟环保直流变频冷水机，采用R1234yf冷媒，机型齐全，温控精度达 ±0.1℃。