iPhone 20或跳号致敬二十周年，屏下Face ID仍存技术瓶颈

【区角快讯】多方供应链消息指出，苹果正酝酿在2027年直接推出iPhone 20系列，刻意跳过数字19。此举意在纪念iPhone诞生二十周年，其策略逻辑与当年跳过iPhone 9、发布具有里程碑意义的iPhone X如出一辙。彼时，iPhone X凭借全面屏设计与Face ID技术，确立了新的行业标杆；此次跳号，同样旨在向市场传递“重大革新”而非“常规迭代”的信号。

关于硬件形态，传闻称iPhone 20将摒弃沿用多年的直屏方案，转而采用四曲面玻璃设计。配合极窄边框工艺，整机正面有望呈现出近乎无边的视觉沉浸感。此前业界曾猜测，该机型可能实现真正的“真全面屏”，即将Face ID组件完全隐藏于屏幕之下。然而，最新流出的证据显示，这一设想或许难以落地。有数码博主曝光了疑似iPhone 20的屏幕盖板照片，清晰可见的挖孔区域暗示，灵动岛交互方案仍将延续自iPhone 18 Pro的设计语言。

从技术原理层面剖析，屏下Face ID的实现难度远超屏下摄像头。Face ID依赖点阵投影器发射数万红外光点，并由红外镜头捕捉光斑形变以构建人脸深度图。若强行置于OLED面板下方，为提升透光率而改变像素排列，极易引发“纱窗效应”及烧屏风险。尽管算法能在一定程度上补偿光学失真，但物理层面的衍射干扰无法彻底消除，进而影响显示画质。加之识别安全性与量产良率的考量，部分组件保留在屏外的混合方案，或许是当前更务实的选择。