Micro LED,走向数据中心

半导体行业观察 2026-10-08 09:56

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到 2031 年,硅基微型 LED 市场规模将达到 35 亿美元。


Yole Group预测,到2031年,MicroLED市场规模将达到35亿美元,分为两大类。第一类是硅基MicroLED,预计到2031年将占据市场大部分份额,达到32亿美元,这主要得益于AR产品的稳步增长以及用于光互连的MicroLED解决方案的兴起。第二类是TFT基MicroLED(应用于电视、智能手表、汽车和透明器件),预计其增长速度将放缓。2025年至2031年期间,第一类MicroLED的复合年增长率预计为120%,第二类约为75%。


对于硅基MicroLED应用而言,其部署取决于全球范围内AR解决方案的广泛采用以及找到合适的MicroLED光互连架构。在TFT方面,相关工作正在进行中,例如在高端智能手表和电视领域推出MicroLED产品。


Micro LED,走向数据中心图1




从面板级到晶圆级




MicroLED生态系统可以概括为围绕一个主要中心:中国大陆、台湾和韩国。这三个地区都拥有各自的面板制造商(京东方、友达光电、三星),以及各自的LED供应商,例如中国大陆的三安光电和台湾的PlayNitride。这种以面板制造商为中心的格局,源于MicroLED最初主要被视为下一代大尺寸显示屏解决方案的时代。随着MicroLED在AR领域的应用,以及越来越多的厂商对MicroLED在光学I/O方面的兴趣日益浓厚,其核心格局正在发生转变。


欧洲仍具备一定的产能,Aledia 和 AMS OSRAM 等公司都在出货芯片。美国拥有主要的原始设备制造商 (OEM),预计将在其新款 AR 眼镜中使用大部分 LED,Meta、谷歌以及苹果等公司最早将于 2027-2028 年实现商业化。


Micro LED,走向数据中心图2




MicroLED技术路线图:

芯片尺寸缩小、堆叠良率和耦合




在TFT平台上,面板的能效仍然是下一代手表发展的关键。高压LED是关键所在,能够将高压运行与小于15x30微米的芯片尺寸相结合的供应商占据了领先地位。将背板从LTPS升级到LTPO,并采用高压芯片,可以降低30%以上的功耗。成本仍然是决定其普及的关键因素:良率的提高加上芯片尺寸的缩小,到2029年,8x15微米的芯片尺寸将成为实现售价低于5000美元的85英寸4K电视面板的途径。


在增强现实(AR)领域,单片RGB是最终目标,但到2026年,堆叠像素结构的良率仅为几个百分点,而且色彩转换亮度仍然不足。三片式RGB引擎在未来两年内仍将占据主导地位。相关标准正在形成:0.1英寸单色屏,像素间距2.5微米;0.2英寸原生RGB屏,像素间距接近4微米,视场角约为30°。


用于人工智能数据中心的光纤I/O技术已经涌现出许多发射器演示,但完整的链路却寥寥无几。目前的性能记录是3 GHz频率、400 A/cm²电流密度。LED与光纤的耦合是瓶颈所在,而短距离传输的波导技术正在研究中。关键在于光子封装技术和超大规模数据中心的支持。


Micro LED,走向数据中心图3




CPO走向主流:

规模化投资与人工智能互联的重塑




在英伟达和日趋成熟的生态系统的推动下,CPO从概念到商业化的进程比预期的2023年发展速度更快、规模更大。CPO光引擎总收入在2026年至2031年间将出现显著增长(年复合增长率约为228%),这反映出超大规模数据中心运营商仅在2025年的资本支出就接近5000亿美元。


扩展性是关键应用:铜缆 NVLink 的传输距离上限约为 2 米,而单个 GPU 的带宽翻倍至 14.4 Tb/s,使得 CPO 成为实现更大 GPU 规模的唯一可靠途径。扩展性交换机 OE 的复合年增长率约为 214%,而扩展性计算 (XPU) OE 也显著扩张,两者合计约占 94% 的市场份额,是预测中最大的产品线。


横向扩展仍然是渐进式的。可插拔设备对于 0.5-2 公里的传输距离来说仍然“足够好”,而且由于网络功耗仅占集群功耗的约 9%,到 2031 年,横向扩展交换机的 OE 将稳定在一个适中的水平(约 127% 的复合年增长率),这是一个市场测试,它考验的是供应链的成熟度,而不是最终的销量驱动因素。


这一机遇初期充满确定性,但其影响远不止于2030年,并将持续攀升至2031年,其中交换机和计算能力的规模化增长仍将是主导动力。NVIDIA的CPO增长速度仍然是值得关注的关键指标。

Micro LED,走向数据中心图4


FRO、LRO、LPO 和 CPO 四种架构构成了一个单一的演进过程,将信号处理从模块转移到 ASIC,以降低功耗和延迟为代价来降低模块成本;FRO 对于长距离传输仍然至关重要,LPO 引领 2025-2027 年数据中心内部传输量,而 CPO 则位于终端。


CPO 在密度和效率方面胜出:铜缆在 200G/通道时长度接近 10 米,而 CPO 的能耗约为 3.2 pJ/bit,而铜缆约为 10 pJ/bit,能耗降低了约 80%,同时交换机/XPU 带宽从 51.2T 攀升至约 204T。


封装和激光器至关重要:台积电的 COUPE(微环调制器,SoIC 键合)正在成为核心推动因素,博通正在将其自己的 CPO 生产线迁移到 COUPE 上,因为扇出封装无法扩展到每通道约 100 Gbps,而远程激光器选择(CW DFB、WDM、梳状激光器)决定了系统的物料清单和可靠性。


耦合是 HVM 的关键问题:微米级公差的光纤阵列单元是制约因素,尽管 Meta/Broadcom 的 Bailly 现场数据(400 万端口小时零错误,约 260 万小时 MTBF)令人鼓舞。


光子中介层、Lightmatter 的 Passage M1000 和 Celestial AI 的 OMIB,以及 UCIe 芯片标准都表明,光 I/O 是计算的下一个前沿领域。


资本正在产业化:从2025年末到2026年中期,超过5000亿美元的资金流入硅光子学/CPO领域的并购和融资,十多家现有企业收购了光器件价值链,业务重心从验证转向激光器、封装、光纤连接和测试,而与超大规模数据中心相关的资本则强化了垂直整合。价值正在结构性地向光引擎、先进封装和光源转移,耦合成为新的瓶颈,而随着光器件向封装领域转移,DSP/重定时器供应商和商用可插拔器件供应商的市场份额正在下降。


晶圆代工和封装是关键所在:台积电的 COUPE(SoIC 混合键合)技术难以复制,而系统 OEM 厂商,如英伟达、博通和 AMD,则从中获得了机架级规模的价值。目前涌现出四种商业模式:垂直整合的系统公司、芯片制造商增设首席产品官 (CPO) 部门、设计初创公司与超大规模数据中心合作,以及系统集成商;英伟达是整合程度最高的,它通过台积电的 COUPE 制造工艺掌控着设计。


耦合、组装和测试由专家负责:康宁(光纤)、FOCI/TFC/Senko(FAU 耦合)、富士康/FIT(激光器)、Fabrinet/ShunSin/Micas/Celestica(组装)和 Keysight/Ficontec/Teradyne/Chroma(测试)至关重要,因为 CPO 不能像可插拔元件那样在现场更换。

Micro LED,走向数据中心图5


(来源:编译自Yole)


*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


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