展商推介 | 芯源微诚邀您莅临2026湾芯展

沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于2002年，是由中国科学院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业，是北方华创集团下属控股子公司，科创板上市企业（股票代码：688037），专业从事半导体专用设备的研发、生产、销售和服务，致力于为客户提供半导体装备成套工艺解决方案。

芯源微多次承担国家重大专项，连续多年获评中国半导体设备行业十强，是国家首批专精特新小巨人企业和国家级制造业单项冠军企业，拥有国家级企业技术中心、省级重点工程实验室和专业技术创新中心等多项荣誉。

■KS-CM300-xCC单片式化学清洗机适用于沉积前清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、CMP后清洗等多种前段工艺（FEOL）和后段工艺（BEOL）清洗进程，可适配高温SPM工艺，工艺覆盖率达90%以上；搭载独立开发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴，洁净度达到先进制程所需水平。

■KS-CF300-SR系列物理清洗机可以用于晶圆正面、背面及边缘的清洗，通过创新研发的二流体喷嘴技术将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物高效去除。

■通过大量仿真与工艺试验相结合，优化清洗工艺参数，避免晶圆表面图形损伤。配合晶圆翻转装置和夹持式承片台，可在同一台设备中实现对晶圆的正反两面清洗。

■KS-FT18为公司自研开发的产品平台，具备极高产品适配性及工艺实用性，此平台可覆盖 KrF 、I-line、BARC、TARC、SOD、NTD、PI、SOC等多种工艺类型，满足不同应用领域及成熟制程需求，同时该平台具备各类先进智能化、自动化的监测、调试等功能，可降低维护成本，提高设备可监控性，满足设备量产应用需求。

■FT Alkaid高产能涂胶显影一体化平台，面向300mm晶圆前道光刻制程，采用自研对称架构设计理念，聚焦硬件模组升级与工艺适配能力升级，全面支持ArFi、ArF、KrF主流光刻工艺及BARC、SOC、NTD等Offline工艺应用。

■新一代自研调度方案，使晶圆传递更加流畅，为整机高产能奠定了软硬件基础，可匹配未来更先进的光刻机产能提升需求。沿用自研CLEAN  TRACK平台的核心创新技术，有效提升了逻辑芯片、存储、功率器件及特色工艺半导体产线的生产效率与综合效益。