想象一下，你是个芯片设计师，雄心勃勃，想搞个超级巨无霸芯片，让计算力原地起飞！
结果，你刚撸起袖子，就被一盆冷水浇醒，光刻机这位“刻印大师”冷冷地说：“尺寸？别想了，最大就给你一块巧克力那么大！”
这块“巧克力”有多大呢？
大约 26mm x 33mm，也就是 858 平方毫米。
这就是芯片制造的核心工艺——光刻的“光照窗口限制”（也叫掩模版限制）。
简单说，光刻机一次曝光，最多只能雕刻这么大一块区域。想超纲？门儿都没有！
所以，看看那些“巨无霸”GPU们，在“巧克力”墙前都得乖乖低头：
A100 GPU： 826 mm² (内心OS：我尽力了！)
H100 GPU： 814 mm² (内心OS：再挤挤！)
B200 GPU (GB202)： 750 mm² (内心OS：前辈们，我小点省电！)
所以，横亘在所有芯片前面，就有这么一道面积墙，掩模版限制最大就是26mmX33mm。
你想想，这尺寸跟巧克力差不多大。
如果你的芯片设计超出了这个范围，那就对不起，你得把一个大芯片“劈”成好几块小芯片（业内叫“小芯片”或“裸片”），然后分别制造，最后再通过复杂的封装技术把它们拼起来 。
这个就是2D的chiplet。
例如：AMD就是用chiplet的技术，实现了Core die 和 IO die的互联。从而实现了对英特尔的技术路线的超越。
这就好比你做个巨型拼图，不能一次性印出来，得把图案切成小块，分别印刷，最后再一块块粘起来。
芯片之间的数据传输，不再是“内部消化”，而是要跨越封装边界，甚至要通过外部总线（比如UPI，PCIe、NVLink，Infinity Fabric）。
这就像你家客厅和厨房之间隔了条马路，每次拿个菜都得过马路，能不慢吗？延迟蹭蹭往上涨，带宽还受限。
数据在芯片之间跑得越远，消耗的能量就越多。这就像你跑长途比跑短途更费油一个道理。
所以，光刻机的“光照窗口”就像一道无形的墙，把传统CPU的尺寸限制得死死的。
就算你突破了尺寸限制，还有个更要命的问题，那就是“冯·诺依曼瓶颈”。
这个概念是计算机科学的“老祖宗”冯·诺依曼提出来的，它描述的是处理器和内存分离的架构 。
在咱们的电脑里，CPU负责计算，内存负责存储数据。
它们之间通过总线连接 。
问题来了，CPU的计算速度越来越快，但数据在内存和CPU之间传输的速度却跟不上 。
这就导致CPU经常“等米下锅”，大部分时间都在等数据，而不是在计算 。
这就像一个超级大厨，刀工飞快，但食材每次都得从十里外的仓库运过来，那效率能高吗？
对于AI计算，这个问题尤其严重 。
现在的大模型动辄几十亿、上万亿参数，训练一次要处理天文数字的数据 。
这些数据需要在处理器和内存之间来回搬运，距离越远，延迟越高，能耗越大 。
训练一个大型语言模型可能要花几个月，消耗的电量比普通家庭同期用电量还多 。
所以，对于AI芯片采用的就是，使用2.5D的chiplet。
例如 AI芯片，就是把多个HBM，和多个GPU封装在一起。
例如上图就是两个GPU，多个HBM通过底层硅基板（silicon interposer）互联在一起。
硅基板的好处就是比普通的基板，TSV的通孔更小，互联密度更大，能够实现更高带宽和更高密度的互联。
也就是说
在CPU目前是通过，2D的chiplet进行互联
而GPU领域，目前是通过2.5D的硅基板进行互联。
这些都是因为有光刻窗口限制，
目前没有办法制造超过858平方毫米的die。
其实仔细看这玩意的规模就知道，不是这样的。
包含 84 个相互连接的“裸片”（die），
每一行有12个。
一共7行。
一共84个die。
每个裸片的尺寸为 550 平方毫米。
84*550mm2=46200mm2，加上划片槽，就和WSE-2宣称的一样了。
所以，本质上，这玩意大芯片，就是一张wafer，把四周圆弧的部分切后，变成了一个DIE的阵列。
每个die的面积仍然在一个光照窗口之内。
但是WSE-2没有切割，他们创新的把划片槽的位置也用上了。
他们没有沿着这些线切割晶圆，而是在金属层中增加了额外的光刻步骤，以图案化“跨裸片导线”（cross-die wires）或“拼接线” 。
实际上就是用芯片制造工艺的RDL层。
RDL是集成电路上的额外金属层，用于将I/O焊盘引出到芯片的其他位置，从而简化芯片间的连接或分散焊球的接触点。
在先进封装中，RDL对于实现更高的互连密度、信号速度和电源效率至关重要，尤其是在AI应用中。
它们通常是晶圆级布线工艺的一部分，例如扇出晶圆级封装（FoWLP）或芯片-晶圆-基板（CoWoS）封装。
WSE-2用了RDL层实现了跨die的互联，这是算是一种不错的创新。
但是，具体到每个die，仍然受到面积墙的限制。
无论是传统的切割封装 (2D Chiplet)，还是高级的叠叠乐 (2.5D Interposer)，
抑或是 Cerebras 这种整片晶圆互联的黑科技 (Wafer Scale)，
光刻机那一次曝光 26x33mm 的“光照窗口限制”，依然是当今单颗芯片裸片 (Die) 不可逾越的“面积墙”或“巧克力天花板”。
这就是芯片制造领域一个甜蜜（尺寸像巧克力）又苦涩（限制发展）的宿命.
设计师们只能在“巧克力块”内绞尽脑汁，或者想尽办法让这些“巧克力块”们能更高效地“聊天”。
想要一整块无限大的“巧克力”？
抱歉，光刻机大佬目前还不批这个条子！
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