斥资14亿美元,DARPA和德州政府打造3D异质整合实验晶圆厂

全球半导体观察 2025-11-17 13:55

科技商业资讯:美国国防高等研究计划署(DARPA)与德州斥资14亿美元,打造一座独特的晶圆厂。这座晶圆厂是对“德州电子研究所”(TIE)的设施进行翻修而来,将负责研究3D异质整合(3DHI)、堆栈和组合等多种材料和芯片类型,以提升美国在AI和高性能运算方面的能力。

 

这座晶圆厂是DARPA“次世代微电子制造计划(NGMM)”的基础设施。该计划的执行董事Michael Holmes表示,“NGMM的核心就是通过3D异质整合,带来微电子革命”。

 

通过小芯片堆栈已经驱动许多全球最先进的处理器,DARPA预测,硅与硅的堆栈(silicon-on-silicon stacking)性能最多只能比2D整合提升30倍;但如果改用氮化镓、碳化硅与其他半导体材料,则有望提升100倍。

 

新的晶圆厂将确保这类堆栈芯片能在美国本土完成原型制作与制造。许多新创公司也出现在发布会上,它们正在寻找一个能进行原型制作与初步量产的地方,而该晶圆厂能帮助他们避免掉入“实验室到量产落差”之中。

 

德州政府将投入5.52亿美元建立这座晶圆厂及其相关计划,DARPA则补足剩下的8.4亿美元。NGMM五年任务完成后,这座晶圆厂预计将能自行营运,成为一门可自给自足的生意。

 

TIE执行长Dwayne LaBrake表示,“我们虽然比一般新创公司有更多发展空间,但终究得靠自己站稳脚步。(文章来源:科技新报)

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