【区角快讯】当全球半导体设备市场被荷兰ASML牢牢掌控，无论是极紫外（EUV）还是深紫外（DUV）领域，这家巨头似乎已无对手。然而，曾经的霸主日本尼康并未选择退场，反而准备在ArF光刻机赛道发起一场激烈的价格反击战。
新任首席执行官大村康弘近期透露，公司正试图以低于ASML的报价策略，争夺新的ArF光刻机订单。这一底气并非空穴来风，而是源于尼康极高的零部件自产率，这使其在成本控制上拥有独特优势。据悉，尼康目前正与美洲及亚洲的多位主要芯片制造商紧密磋商，采购协议即将落地。
从技术维度看，ArF光刻机属于DUV中的高端品类，采用193nm波长，分为干式与浸没式两种工艺。其中，浸没式机型如ASML的1980i和2000i系列，不仅是国内近年进口的主力，更是配合多重曝光技术实现7nm制程的关键设备。即便在EUV普及的今天，出于成本考量，非核心层仍大量依赖ArF设备，其市场需求依然旺盛。
回望历史，佳能、尼康曾凭借光学底蕴在光刻机领域占据统治地位，英特尔早期高达80%的设备采购量便来自尼康。颇具讽刺意味的是，这种过度依赖或许让英特尔在DUV向EUV转型的窗口期犹豫不决，进而导致其在过去十年中逐渐落后于台积电。
尽管市场份额萎缩，但尼康在CD均匀性等光学指标上仍保有竞争力。若能提供比ASML低20%-30%的价格，对于晶圆厂而言，这意味着巨大的资本支出节省。将尼康设备作为ASML产线的“高性价比搭档”，或许是打破单一供应商垄断、优化供应链韧性的务实之选。
