全球首款0.7nm芯片,来了!

芯东西 2026-06-25 20:29

全球首款0.7nm芯片,来了!图1

传统芯片尺寸缩小取得里程碑式突破。
作者 |  ZeR0
编辑 |  漠影
芯东西6月25日报道,今日,IBM推出全球首款小于1nm的芯片技术,制程节点为0.7nm(7埃米),在指甲盖大小的芯片上集成了近1000亿颗晶体管,密度几乎是IBM于2021年发布的2nm芯片的两倍
技术结果报告称,相比IBM 2nm节点芯片,这款新芯片预计将性能提升达50%,能效比提升70%
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这项技术得益于一系列结构和材料创新。IBM研究人员开发了一种全新的晶体管架构,称为纳米堆叠(Nanostack),这是业界首个已知的基于纳米片(nanosheet)的3D设计
它表明即使芯片特征接近原子尺寸,性能和效率的持续提升仍然成为可能。
纳米堆叠技术的设计采用垂直堆叠交错排列晶体管的方式,利用3D顺序集成技术在芯片上集成更多晶体管。该设计还允许在每个堆叠层中使用不同的材料组合,从而独立优化每个晶体管的性能和能效。
IBM纳米堆叠架构通过CMOS集成中的超薄介质键合双通道工程能力演示以及具有预期开关性能的功能性CMOS逆变器运行,得到了实验验证。
这些结果共同证实了纳米堆叠技术可以实际构建并支持真正的计算。
此外,在VLSI 2026上发表的新研究中,IBM研究人员证明,纳米堆叠架构可将SRAM的容量降低40%,从而释放芯片设计人员创造更高效芯片的能力,同时还能支持高级AI工作负载的高带宽数据需求。
借助这种新型纳米堆叠架构,IBM的半导体路线图预测未来至少十年内仍可实现微缩。
IBM及其合作伙伴在位于美国一家领先的半导体研究机构开展这项工作。
该机构即将配备一台High-NA EUV光刻机,这对未来逻辑电路的微缩至关重要。
IBM及其合作伙伴,包括Lam Research、东京电子和SCREEN Semiconductor Solutions,一直在共同开发新型High-NA EUV工艺和设备,已成功制造出可用的器件。
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近期IBM还宣布了一项计划,拟成立一家独立运营的公司Anderon,这是全球首家纯粹的量子晶圆代工厂,将依托IBM业界领先的量子计算和半导体技术。
IBM预计纳米堆叠技术最早将在1nm以下节点得到应用,并认为最早在未来5年内即可实现量产。
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