展商推介 | 重山光电将亮相2026湾芯展

山东重山光电材料股份有限公司是一家集研发、中试、产业化为一体的国家高新技术企业。公司坐落于山东省淄博市淄川区重山光电园内，注册资本金3000万元，总投资12.7亿元，项目占地700亩。公司主营业务涉及半导体制程材料，稳定同位素及其衍生材料，含氟生物医药材料，锂氟化碳电池及其关键材料，特种功能氟碳材料，特种锂合金材料，联合研发、代工、投资业务。

在半导体制程材料领域，公司致力于含氟电子特气产品的研发与生产，产品广泛应用于半导体制造过程中的清洗、刻蚀、离子注入/掺杂、薄膜沉淀等关键工艺。

三氟化硼-11（11BF3）11B同位素对热中子的吸收截面积仅为0.005靶，用于半导体器件制程的掺杂剂能够有效提高器件的半导体性能和抗辐射干扰能力。

二氟化氙（XeF2），又称二氟代氙，分子量为169.30，是一种无色固体，在电子工业中，XeF2常被用作硅的蚀刻气体，由于XeF2和硅的化学反应是自发反应，XeF2对硅的刻蚀工艺具有非常高的选择性，在XeF2对硅进行刻蚀过程中，XeF2气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4，从而实现对硅的腐蚀。

三氟碘甲烷（CF3l）作为一种新型环保绝缘气体，替代SF6应用于电力行业。它具有良好环境特性，绝缘强度优于SF6。CF3I的击穿分解不会产生有毒产物，一定条件下对绝缘强度等不会产生负面影响。

三氟化硼-10（10BF3）10B同位素具有对中子高吸收的独特特性，对热中子的吸收截面3837靶，是高效的热中子吸收剂，是自然丰度硼的5倍，石墨的20倍；除了吸收截面大，与其它常见的中子吸收材料Gd和Cd等相比，10B或者富集10B及其化合物被广泛应用于辐射防护、中子探测、军事装备及放射性治疗等领域。如富集10BF3可作为制造BF3正比计数管的原料用于中子探测领域；在核工业中也可作为生产硼-10酸、碳化硼-10、硼-10粉、硼-10化锆的原料，用作中子吸收剂材料；也可用于生产硼-10不锈钢，用作辐射屏蔽材料，在辐射防护领域发挥作用。

三氟化磷（PF3）是一种无机化合物。在常温常压下为无色无味的有毒气体，液态时为无色透明液体，空气中不太发烟，相当稳定，加热时与氢反应生成PH3，能与水反应生成亚磷酸和氟化氢。碱中也能分解。可溶于乙醇。除在高温外，不腐蚀玻璃。

四氟化锗（GeF4)是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。