展商推介 | 系科将亮相2026湾芯展

系科仪器致力于先进椭偏技术研究，旨在协助客户提高研发及生产效率，并带给客户更好的使用体验。

公司特别关注为微纳薄膜领域提供精益级测量及控制仪器，包括各种光谱椭偏、ALD镀膜、反射式膜厚仪等，从性能参数、使用体验、价格、产品可靠性及工艺拓展性等多个维度综合考量，以助客户提高研发和生产效率，以及带给客户更好的使用体验。

主要客户大都来自于为光学薄膜和半导体领域。目前出货量已经达到一千多台，出口到十多个国家。

■系科膜厚仪是新一代薄膜厚度量测设备采用业界独有的高精度微型化椭偏式膜厚量测技术，能实现高精度测量，还可实现工艺和检测的闭环。

■适用于CVD、PVD、ALD和刻蚀中广泛的前端和后端在线测量工艺，具有高精度、高产能、高性价比的特点。

■系科介质膜OCD形貌测量仪采用光谱反射法（SR）光谱椭圆偏振法（SE）及散射的原理，通过测量反射光的偏振态变化来实现对薄膜厚度、折射率、关键尺寸（CD）及形貌参数等关键指标测量的高精度光学检测。

■尤其适用于吸收性膜层或多层膜结构。能够对半导体晶圆表面的介质膜（如氧化硅、氮化硅、光刻胶、高 K 介质等）进行非接触、快速、无损检测。

■穆勒光谱椭偏仪是一款广泛应用于科研、工业领域的薄膜检测测量仪器。

■系科仪器凭借行业领先的微纳米薄膜测量创新技术，实现了光斑最小30微米，测试重复性0.01nm，测试速度约1s左右，Mapping多点测量等多项技术突破。

■样品尺寸 ≤8 寸

■反应温度 25-400℃

■源 温 RT-80℃、RT-150℃、RT-200℃可选

■源数量 2-4 个金属源 +1-3 种氧源

■可选配 臭氧发生器、PEALD、RGA、RPS、手套箱等

■波长范围覆盖190-1700nm

■RCRC（Dual‑Rotating‑Compensator，双旋转补偿器）技术

■自动对焦、自动变角（45-90°）

■微光斑微区聚焦技术

■支持Mapping台扩展自动测量

■有效镀膜区域

■550*550*950mm

■可支持不同尺寸和形状的 SHD、HEATER、CHUCK 的镀膜

■有效镀膜温度 25-400℃

■温控精度 ±1℃

■常规工件每炉可处理2-4件