华为海思入局SiC领域,推出两款1200V工规SiC器件

艾邦半导体网 2025-07-25 18:06

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近期,华为旗下海思技术有限公司进军碳化硅功率器件领域,首批推出两款TO-247封装1200V SiC单管,面相工业高温、高压场景场景。

海思1200V SiC器件:

1. 海思ASO1K2H020M1T4

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海思ASO1K2H020M1T4是一颗采用TO-247-4封装的1200V碳化硅MOSFET,25°C环境下导阻20mΩ,而在175°C高温下也可维持30mΩ超低导阻,栅极电荷185nC,最高可通过100A电流(25℃)。

2. 海思ASO1K2H035M1T4

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海思ASO1K2H020M1T4是一颗采用TO-247-4封装的1200V碳化硅MOSFET,25°C环境下导阻35mΩ,而在175°C高温下也可维持57mΩ导阻,栅极电荷108nC,最高可通过100A电流(25℃)。

海思此次推出1200V SiC器件,源于华为长期以来在碳化硅领域的战略性投入和全产业链布局。自2019年4月23日成立哈勃科技投资有限公司以来,华为便致力于通过战略投资,加速其在半导体及相关前沿技术领域的生态建设。
从2019年8月起,哈勃科技投资便持续发力,全面布局碳化硅产业链的各个环节。衬底环节投资山东天岳先进(持股 10%)和北京天科合达;外延片环节投资东莞天域半导体;器件设计与制造及电力电子解决方案环节投资东微半导体、瀚薪科技、英飞源、杰华特微电子、易冲半导体等。
海思此次推出的1200V SiC单管,凭借其在高温高压场景下的性能,丰富了自身在功率器件领域的产品线,更为工业及汽车电子等行业提供了高效可靠的解决方案。这一举措彰显了海思在宽禁带半导体领域的技术实力与市场布局,有望推动碳化硅功率器件在更多高端应用中的普及,加速产业升级与技术创新,对于提升我国在半导体关键领域的自给率和竞争力具有重要意义。
文章来源:华为海思官网、充电头网

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