AI算力持续推升先进封装需求,玻璃基板成为半导体产业下一阶段布局焦点,近日据《首尔经济日报》报导,英伟达正评估玻璃基板方案,并与德国设备商SCHMID等企业展开合作,希望韩国、日本等地的基板厂商能在两年内完成开发,最快于2028年前导入应用。

《首尔经济日报》报导,SCHMID在上半年财报说明会表示,公司正与英特尔、英伟达、AMD等企业的核心供应商合作,共同开发玻璃基板相关设备,不过,SCHMID策略长Roland Rettenmaier指出,目前玻璃通孔(TGV)金属化仍存在技术难题,客户认证也尚未完成,玻璃基板距离全面量产仍有技术与验证工作需要突破。
从供应链布局来看,英伟达近年持续推动玻璃材料相关技术,英伟达执行长黄仁勋此前曾与SK集团会长崔泰源会面,讨论包括玻璃基板在内的下一代半导体合作,也积极推动台积电开发玻璃基板技术,显示玻璃基板已成为英伟达评估下一代GPU封装方案的重要方向。
此外,英伟达今年5月与玻璃基板大厂康宁达成多年期合作,将投资最高27亿美元并取得认股权证,康宁则计画在美国新建3座制造厂,扩大光学连接产品产能,主要服务超大规模AI资料中心。
在先进封装方面,英伟达也持续与台积电共同定义CoPoS玻璃面板封装技术,透过更大尺寸的面板级封装,提升单一封装内可容纳的HBM数量,进一步增加下一代GPU及CPO的频宽。相关技术目标在2028年至2029年实现量产。
业界之所以积极投入玻璃基板,主要与AI芯片封装尺寸持续放大有关,随着Chiplet及先进封装发展,传统ABF、BT等有机基板在热膨胀、翘曲及层间错位等方面面临挑战,玻璃则具有较低且可调整的热膨胀系数,有助于降低大尺寸封装的应力。
此外,面板级封装也是玻璃材料的重要应用方向,随着AI芯片封装面积不断放大,采用大型矩形玻璃面板,有机会提高材料利用率并降低大尺寸封装成本。
玻璃材料另一项潜在应用则是高速光互连,在CPO架构下,玻璃具有较低介电损耗及较低串扰等特性,被业界视为高速、高密度互连的潜在材料方案。
目前英特尔、英伟达、台积电、三星及AMD等半导体大厂均已投入玻璃基板相关技术,不过,从设备开发、TGV金属化到客户认证及量产,仍存在多项技术关卡,随着AI算力需求持续提升,玻璃基板能否在2028年前后进入量产阶段,成为先进封装供应链持续关注的焦点。
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序号 | 初拟议题 |
1 | 玻璃基板商业化元年回顾与量产关键节点展望 |
2 | 厚玻璃TGV成型技术最新突破与产业化路径 |
3 | 高深宽比通孔金属化种子层沉积工艺挑战与解决方案 |
4 | 玻璃基板良率提升全流程管控 |
5 | 玻璃基板检测与量测设备全流程方案 |
6 | 玻璃基板在CPO光互联中的应用与高速光引擎进展 |
7 | 玻璃基器官芯片:TGV技术在生命科学领域的跨界探索 |
8 | 国产玻璃原片技术进展与先进封装材料需求匹配 |
9 | 玻璃基板激光打孔设备最新进展 |
10 | 铜浆增材制造TGV电路板:低成本金属化路线探索 |
11 | 大尺寸玻璃基板翘曲控制与热膨胀系数匹配策略 |
12 | 先进封装混合键合工艺中的清洗技术及玻璃基板应用 |
13 | 玻璃基光波导技术:面向光互连的离子交换方案 |
14 | 高能脉冲电源在深孔磁控溅射种子层沉积中的应用 |
15 | 玻璃基板关键材料国产替代:CMP抛光垫、电镀液与光刻胶 |
16 | TGV玻璃基板专用掩膜版技术发展与产业化 |
17 | 玻璃芯基板与玻璃转接板:技术路线对比与产业化选择 |
18 | 玻璃基板在AI算力芯片封装中的2.5D/3D集成方案 |
19 | 玻璃线路板产业生态建设与上下游协同创新 |
20 | 玻璃基板金属化设备:PVD、电镀与铜填充技术发展 |
21 | 玻璃基板键合与解键合设备在超薄玻璃加工中的应用 |
22 | 玻璃基板在Mini/MicroLED显示中的量产实践 |
23 | TGV集成无源器件在射频前端模组中的应用 |
24 | 玻璃基板可靠性分析与失效机理研究 |
25 | 玻璃基板热处理设备:退火、固化与应力控制 |
26 | 玻璃基板涂胶显影与光刻设备在RDL制程中的应用 |
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