展商推介 | 新毅东将亮相2026湾芯展

新毅东科技股份有限公司（以下简称“BNE”），成立于2014年3月，是一家专注于半导体生产线设备业务的高新技术企业。BNE核心业务围绕黄光设备的技术服务与自主研发，同时积极引入海外先进产品技术，并致力于关键部件国产化替代，为集成电路、化合物半导体、 MEMS及LED等领域的客户提供设备制程整合和个性化解决方案。 BNE已与半导体领域200多家客户建立稳固合作关系，并组建了经验丰富的技术团队。

为强化服务能力与技术创新，BNE在北京、上海、武汉、昆山、无锡布局了研发生产网络，旨在创建半导体前道设备综合服务平台，促进技术革新与产业升级。

可应用于先进集成电路制造中多种前段工艺(FEOL)和后段工艺(BEOL)，可根据不同应用配备不同化学药液与辅助清洗方式，也可应用于晶圆制造、MEMS制造，以及功率器件制造领域。设备采用模块化、标准化设计，满足客户多种工艺应用需求；采用多片式传输系统保障高效工艺产出；精密的腔室设计，支持高效的化学品回收效率；可配置伯努利卡盘，有效保护晶圆正面；具备良好的颗粒与背面刻蚀均匀性控制能力。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-A/B/C，适用于G-line、i-line等工艺，设备搭载高精度、高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。TC1000-A/TC1000-B/TC1000-C分别适用于：6寸及以下功率器件/8寸及以下先进封装/12寸及以下先进封装、MEMS和LED等应用领域。

可应用于湿法去胶工艺、介质层湿法刻蚀工艺、金属层湿法刻蚀工艺、炉管前清洗工艺以及其他特殊工艺清洗需求。设备采用模块化、标准化设计，满足客户多种工艺应用需求；集成多功能药液槽，精准控制刻蚀速率；采用先进的设计理念，有效减少化学品及纯水使用量；多手臂模组设计，降低交叉污染风险；应用高效的马兰格尼干燥技术，实现良好的干燥效果。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC2000，适用于ArF/KrF/i-line、PI等工艺，设备配置高精度、高稳定性的传送模组及工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于IC、先进封装、MEMS、功率器件、射频集成等领域。设备可以根据客户需求进行功能定制化开发，以满足客户对于不同产品的需求。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC1500，适用于i-line、G-line和PI等工艺，设备搭载高精度、高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、LED等领域。