展商推介 | 基迈克将亮相2026湾芯展

基迈克理解客户需要针对市场需求作出敏捷的反应，才能在如今快速变革的半导体领域取得成功。我们保持与客户和技术伙伴的密切合作，在满足客户当前需求的基础上更着眼于未来半导体发展所需的溅射靶材材料和生产工艺研发。利用完善的制造设施和技术能力，我们为半导体技术相关应用领域提供具备高纯度、细微晶粒的高性能溅射靶材。

为客户提供“一站式”靶材解决方案，包含及其广泛的材料选择，可以根据客户要求提供单一元素或多种组分的溅射靶材，包括高纯金属、金属基复合材料(MMC)以及陶瓷基复合材料(CMC)。

技术先进性——微纳结构精准调控：基迈克对靶材微观组织的均一化与晶粒尺寸的精细控制，确保薄膜电阻温度系数（TCR）的稳定性与一致性。

工艺成熟度——全流程自主可控：从粉末冶金到金属形变的集成制造工艺，搭配高纯原料纯度控制与惰性气体环境氧分压管理，确保靶材溅射过程稳定、成膜缺陷率低，已通过多家半导体客户验证并批量应用。

半导体PVD、CVD及刻蚀设备中的核心腔体部件。

依托公司在高纯材料制备、精密加工领域积累的核心技术，基迈克在Showerhead等腔体精密部件的制造上具备显著的技术协同优势。

是等离子体刻蚀设备腔体中的核心功能部件。

基迈克拥有高纯材料处理能力，精密加工与微孔制造能力，可保证电极材料纯度及尺寸匹配。

腔体防护涂层技术，可保证部件性能、延长部件寿命。