电子发烧友网综合报道 GaN在数据中心HVDC架构中正在起到越来越重要的作用,近期瑞萨推出了多款GaN的芯片,旨在覆盖在数据中心内越来越广泛的应用场景。高压侧,TP65H020G4PLSGBD 用 8mm×8mm 双面散热封装,把 650V 器件塞进更小的空间;低压侧,RTP100E005G1FL 等四款 100V 器件成为业界首个增强型(E-mode)GaN 分立系列。高压侧:D-mode 级联是技术底座瑞萨650V GaN采用了SuperGaN® 平台采用常关型级联结构,把高压耗尽型GaN HEMT 与低压硅 MOSFET 组合封装,用硅管的栅极输入接口换取驱动兼容性。TP65H020G4PLSGBD 耐压 650V、导通电阻 20mΩ(典型),基于第四代升级版(Gen IV Plus)平台;阈值电压典型 4V,栅极电荷典型 19.6nC。该器件兼容标准硅栅极驱动器,无需负栅极偏置或专用驱动电路;内置续流二极管,反向恢复电荷可忽略。瑞萨迭代节奏是,Gen IV Plus 相较前代芯片面积缩小 14%、优值提升 20%,说明高压路线仍在持续演进,而非定型。低压侧:改用 E-mode,为的是开关优值四款 100V 产品导通电阻覆盖 5mΩ 至 1.2mΩ,其中带 -DSC 后缀的两款采用双面散热配置。相比同类 GaN 器件,硬开关优值最高降低 35%,软开关优值最高降低 63%;具备零反向恢复电荷(Qrr=0)特性。由于100V 段无需高压级联来隔离,E-mode 结构更直接,也更容易做出低优值;同时封装与硅 MOSFET 兼容,便于从现有设计迁移。低压产品主要切入 800V 高压直流(HVDC)架构的次级侧,包括 48V 及以下的负载点转换、同步整流与多相降压。封装正在成为第三条技术线瑞萨目前的650V GaN高压封装从 TOLT 顶部散热转向 8mm×8mm 双面散热(DSC):顶部热阻降低 10%,占板面积较 10mm×15mm TOLT 缩小 57%。低压封装保留底部散热与双面散热两种配置,并与硅 MOSFET 封装尺寸对齐,降低迁移成本。这意味着在数据中心应用中,功率GaN封装不再只是承载器件,而是直接决定功率密度与散热预算的性能变量。小结:瑞萨的取舍很明确,高压端不追求架构上的激进,而是用级联换取驱动生态的平滑迁移;低压端则放开手脚,用 E-mode 直接对标开关优值。通过这样的设计方向,产品矩阵覆盖了从 650V 一次侧到 100V 次级侧的完整链路。对瑞萨而言,真正的护城河不在单颗器件的参数,而在两条路线共同指向的那套封装、驱动与参考设计体系。声明:本文由电子发烧友综合报道,转载请注明以上来源。如需入群交流,请添加微信elecfans999,投稿爆料采访需求,请发邮箱wuzipeng@elecfans.com。更多热点文章阅读点击关注 星标我们将我们设为星标,不错过每一次更新!喜欢就奖励一个“在看”吧!