需求激增，Canon扩增半导体微影设备产能，传出将扩产50%。
日本新闻网站Newswitch 20日引述日刊工业新闻的报导指出，Canon将在2029年把用于半导体后段制程的微影设备产能较2026年提高50%。
据报导，自2025年年中左右开始，先进半导体后段制程用设备需求激增，Canon将扩增宇都宫事业所内的新工厂产量，并提升生产效率，来提高供应能力。宇都宫新工厂于2025年9月投产，预计在2027年满载生产。
报导指出，Canon针对先进半导体后段制程推出i线微影设备，除了有供货给台积电(2330)的实绩外，来自HBM的需求也扩大。 Canon半导体设备事业部长三浦圣也表示，「自2025年年中左右开始，客户洽询量激增」。
日本半导体制造装置协会(SEAJ)9月18日公布统计数据指出，2026年8月份日本制芯片设备销售额(3个月移动平均值、包含出口)达5,979.15亿日圆，较去年同月暴增47.4%，连续第8个月呈现增长，连续第6个月出现2位数(10%以上)增幅，增幅为54个月来(2022年2月以来、暴增56.8%)最大，月销售额连续第5个月冲破5,000亿日圆大关，超越2026年7月份的5,562.20亿日圆、创1986年开始进行统计以来历史新高纪录。
（来源：内容来自半导体芯闻综合）
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