
一名姓全(Jeon,56岁)的三星电子前员工,因向国外企业泄露并利用三星的18纳米级DRAM技术,被上诉法院判处五年监禁。此前在一审中,他曾被判处七年监禁,此次刑期缩短了两年。
10月22日,首尔高等法院判处全某五年监禁。他此前在被羁押期间受到起诉,罪名包括未经授权泄露工业技术等。全某曾供职于三星电子,后于2016年转投国外企业。他被指控在国外企业负责设施投资业务期间,利用了三星的18纳米DRAM相关技术。

法院指出:“被告泄露了三星电子的‘国家核心技术’,对国家的产业竞争力构成了重大威胁。其行为性质极其恶劣,必须承担与其后果相符的法律责任。”
不过,法院也列举了若干减刑理由。法院指出,全某在国外企业任职期间,虽然整理了所谓“合肥项目”的设施投资相关信息,但他并未直接参与半导体产品的实际研发工作。此外,法院还考虑到,全某在其他涉及向国外企业泄露技术的案件中出庭作证,配合查明了真相。综合考量这些因素后,法院认为此前七年监禁的判决“略显不合理”。
调查还显示,在六年时间里,全某从国外企业获得了约29亿韩元(KRW)的报酬,其中包括合同约定的激励措施和股票期权。调查显示,全(Jeon)某及其同伙所使用的18纳米工艺配方(PRP),是由一名姓朴(Park)的人员非法获取的。此人曾是三星电子的工艺架构(PA)工程师,于2016年9月将相关技术细节手抄在了一本笔记本的12页纸上。目前,该朴姓人员正处于国际刑警组织“红色通缉令”的通缉之下。
全某在初审期间一直否认指控,但在上诉审理阶段改变了立场,承认了相关指控。上个月9日,他在法庭上公开道歉。在提交给法庭的悔过书中,他写道:“三星电子是本案的主要受害者。”他还补充说:“我相信坦白交代有助于防止此类事件再次发生。”
在上诉审理期间,全某还作证称,国外企业的管理层曾亲自向他们施压,要求他们从三星电子获取技术。据《中央日报》获得的一份陈述显示,2016年10月至12月期间,国外企业前首席执行官曾召集包括全某在内的韩国籍员工,要求他们提供三星电子的工艺配方及设备规格信息。
针对此前发生的半导体技术泄露事件,韩国政府已承诺将“加大处罚力度”。
全某表示,前首席执行官曾向他们施压称:“把你手头所有三星电子的工艺配方和设备信息都交出来。如果不交,我就向韩国政府举报你们。别想撒谎蒙混过关;我有渠道去核实这些信息是否确实来自三星电子。”在描述当时的情况时,全某说:“我当时感到非常恐惧和害怕。”
此外,针对其他跳槽至国外企业的前三星电子员工,相关法律程序也在进行中。其中包括曾任三星电子高管、后在国外企业担任第二开发部门负责人的杨(Yang)某,以及一名负责第八制造工艺的团队负责人,他们目前正在接受一审审判。另一位姓金(Kim)的人士——他曾与一位姓全(Jeon)的人士一同转投国外企业并担任第一开发部门负责人——在今年4月进行的一次重审(发回重审)中,被判处六年零四个月监禁,并处以2亿韩元罚款。

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