一、为什么AI光学检测是「先进封装」不可或缺的角色?
随著半导体制程向高密度、高整合、高效能持续迈进,先进封装(Advanced Packaging)技术正逐步取代传统封装,成为推动晶片性能极限的关键技术。像是FOPLP(扇出型面板级封装)、CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)、TSV(Through-Silicon Via) 等技术,已成为高阶晶片封装主流。然而,这些技术所带来的,是前所未有的微缩尺度、多材料堆叠与复杂制程挑战,对检测技术提出更高标准。
封装技术演进:从IC封装走向FOPLP、CoWoS、TSV
过去的IC封装著重于基本保护与电气连接,而现今的先进封装则融合晶片堆叠、异质整合与高频/低功耗传输要求。举例来说:FOPLP 扩大封装面积,增加多元元件整合的可能,却也带来平整度(warpage)控制与微缺陷难以辨识的困难;CoWoS 与 TSV 采用高深宽比结构,内部通孔、接点品质的检测成为良率瓶颈;材料从矽、玻璃、陶瓷到透明聚合物不等,反光、透光、粗糙度差异使传统检测系统无所适从。
高密度/高层数/异材结合 → 微缺陷检测需求急速上升
在先进封装产线中,常见的问题包括晶圆表面的刮伤与异物、玻璃晶圆的低对比缺陷、陶瓷与透明材料的破损与杂点、面板与基板的 warpage(翘曲)与 bow(弯曲)。这些缺陷往往极为细小或难以察觉,且受材料性质影响大,传统 AOI 系统多数依赖预设规则与对比判断,对于复杂材质与多样化缺陷类型常常出现误判或漏检。
先进封装制程所面临的检测挑战,包含但不限于:刮伤/异物检测:在高密度线路或晶圆表面,任何轻微刮痕都可能影响导通或可靠性;BOW / Warpage:基板翘曲将导致制程对位困难,影响后段制程如雷射开孔、点胶等精准度;低对比缺陷:像玻璃晶圆或透明薄膜,缺陷与背景反差低,传统AOI容易误判或漏判;复杂几何与叠层结构:三维堆叠导致部分瑕疵非单一视角可见,需多角度/多光谱检测介入。
传统AOI难以应对:透明材质、弯曲变形(BOW / Warpage)、低对比缺陷等
传统AOI(Automated Optical Inspection)多仰赖固定演算法与预设模板比对,在面对新材料或新制程异常时,缺乏弹性与判断力。而AI光学检测透过深度学习,能从实际样本中自主学习瑕疵样貌、背景杂讯与容差范围,有效辨识:隐藏性瑕疵(微裂纹、表面凹陷)、不规则瑕疵(非模板化的异物、污染)、透明/半透明材质下的瑕疵、偏移型变形如线路扭曲、Bump错位。
AI光学检测的价值不只是看见瑕疵,而是预测风险、提早应变,在先进封装制程中,早一步辨识关键瑕疵,就能避免整批报废、降低测试成本,并透过AI持续学习机制,不断优化瑕疵分类、提升准确率。这使得AI光学检测成为推动智慧制造与高良率产线的核心动能。
二、五大实战应用案例分享|AI光学如何精准应对各种挑战?
案例名称 | 缺陷类型 | 材質/載具 | 对应技术挑战点 | 解法特色 |
---|---|---|---|---|
1. 晶圆刮伤与线路损伤检测 | 刮伤、裂痕、线路中断 | 晶圆(硅) | 表面微损难辨识、类似杂讯 | 使用深度学习自动分类模型 |
2.玻璃芯片检测 | 异物、破损、BOW偏差 | 玻璃基板 | 透明低对比、反射干扰 | 客制化偏光光源 + BOW演算法 |
3. 陶瓷基板检测 | 黑点、针孔、边缘破损 | 陶瓷、陶铝基板 | 微细裂缝、表面粗糙易误判 | 多角度光源建构轮廓影像 |
4. 面板线路瑕疵检测 | 短路、开路、变形 | 面板 | 线路密集、瑕疵形状变异度高 | 使用瑕疵资料建模 + 边界学习技术 |
5. 透明片异物与应力检测 | 异物、杂点、双影 | 透明塑胶、玻璃 | 高反光材质 + 双层叠影干扰 | AI比对多光谱影像 + 应力分析模型 |
1. 晶圆刮伤与线路损伤检测
应用场域:先进封装晶圆、TSV制程前段
对应问题:微细刮伤、金属层线路破
图:检测晶圆上的刮伤与线路损伤瑕疵,并对瑕疵晶粒进行喷墨
图:演算法能正确检测出瑕疵,并对瑕疵进行分类
晶圆表面极为平整,任何细微刮伤或断线都可能造成电性异常。AI能从庞大图像资料中学习正常与异常纹理差异,准确区分出极细的线路断裂、刮伤与污染物,比传统演算法更能应对低对比、高密度区域的复杂图形。
2. Glass Wafer 透明瑕疵与Bow检测
应用场域:玻璃夹层/玻璃基复合材料
对应问题:异物、破损、翘曲(Bow)
图:使用高效显卡搭配优化后的AI瑕疵检测模组,能在5分钟内完成训练
透明玻璃基材在反光环境中常因低对比而让瑕疵难以辨识。AI可搭配偏光与多角度光源设计,学习应对不同光影变化,辨识如玻璃内陷、气泡、裂缝等细节,同时也能借由几何演算法分析基板翘曲量(Bow)与翘曲方向,支援FOPLP等面板级封装制程。
3. 面板线路瑕疵与形变分析
应用场域:扇出型面板级封装(FOPLP)、Redistribution Layer 检查
对应问题:开路、短路、线路歪斜、压痕
图:正确检查线路有无短路电路,5um以上的瑕疵检出
FOPLP强调大面积精密线路布局,常见线路过窄、走向异常或接点压伤等问题。AI透过线路学习模型自动对齐标准布局图,辨识如金属层歪斜、过蚀刻、氧化物异常等非标准瑕疵,避免产品因功能异常退货。
4. 陶瓷基板表面瑕疵检测
应用场域:高频通讯模组、功率元件封装
对应问题:表面黑点、针孔、边缘破损
图:搭配平行化的架构和优质的算法,任何尺寸的基板都可在10秒内检完
陶瓷表面质地粗糙,反光不均且多孔,传统AOI容易误判正常纹理为异常。AI能进行区域学习比对,根据不同烧结纹理建立缺陷标准,大幅减少误报,并能识别边角破损与微小内陷。
5. 透明片缺陷与异物检测
应用场域:透明保护膜、光学膜材封装制程
对应问题:脏污、压痕、双影、杂点
图:能正确检出表面刮伤与破洞
透明材质在封装过程中易受压产生双层痕、微粒污染等视觉瑕疵。AI模型能运用多光谱影像组合与光影消除演算方式,去除干扰背景,准确辨识肉眼难察的微细缺陷,并可结合即时预警系统进行自动报修。
这些实例不仅展现AI在光学检测的高精度能力,更说明其高度客制化、跨材质适应与自学强化的特性,是现今先进制程从FOPLP到Glass Wafer皆可导入的重要品质策略工具。
三、整合应用在FOPLP、CoWoS与TSV的实际产线优势
AI 光学检测不只是单点应用工具,而是能根据封装技术特性与制程挑战进行深度整合,在多种先进封装平台中发挥关键价值。以下是三种常见先进封装技术下,AI 光学检测如何因应其结构特性提供最佳化解法:
CoWoS/TSV:高深宽比通孔检测 → 搭配斜角光与影像深度AI建模
CoWos与TSV技术中,常需进行通孔(Via)与再布线层(RDL)的多层垂直整合,这类结构具有高深宽比、孔径极小、孔壁品质要求高的特性。传统AOI在垂直结构上易受死角影响?
AI光学检测结合斜角光源设计与3D影像深度建模,可精确重建孔洞轮廓,辨识孔内异物、内壁粗糙、镀层不均等瑕疵,有效支援TSV制程前后段关键环节。
FOPLP:扇出型大面积封装 → 精度需配合warpage与bow控制
FOPLP 封装使用大尺寸面板进行多晶片封装,常出现面板变形(warpage)、翘曲(bow),导致线路错位或对位不良。AI 检测系统可透过形貌建模与学习式对位机制,同步判别平面瑕疵与变形行为,并结合量测资料进行自动补偿。相较传统2D AOI,AI 模型可自动适应不同变形量与翘曲角度,维持高精度的良率控管。
glass wafer:检测异物与裂痕并防止因反光而误判瑕疵
在玻璃晶圆或透明介质上,常因低对比与反光现象导致瑕疵无法被准确辨识。AI光学系统可搭配偏光、消光与多角度光源,并利用AI演算法进行反光滤除与背景还原,有效提升像是裂痕、气泡、异物、表面破损等低对比缺陷的辨识率,避免误判与漏检。
四、AI 检测系统与 MES、SPC 的自动串接应用|打造封装产线的即时品质回馈机制
在 FOPLP、TSV 等高阶封装产线中,品质不仅需要靠高精度检测,更需要快速、即时的资讯整合与制程调整能力。AI 光学检测系统具备高度弹性与开放式架构,可无缝整合至 MES(Manufacturing Execution System)、SPC(统计制程管制)等智慧工厂系统,实现下列效益:
瑕疵分布报告、自动分类记录
AI系统可将瑕疵自动分类(如:刮伤、异物、裂痕、金属短路等),并输出缺陷热点分布图,作为SPC分析与制程参数优化依据。这种数据自动化可减少人工判定偏差,加快品质决策速度。
整合MES回传修单与工单追朔
每笔异常纪录皆可即时上传MES系统,生成对应修单或重工标记,并保留产品编号、批次、站点等资讯,利于后续追朔与制程优化。此功能特别适用于晶圆封装与面板封装等多段流程,可防止缺陷产品流入下流关键制程。
支援TSV/FOPLP封装产线即时回馈应用
在高节拍、极度精密的 TSV 与 FOPLP 封装生产中,AI 系统能配合制程节奏提供即时缺陷侦测 + 决策建议,并透过 API 串接回馈设备参数(如曝光时间、对位精度等),实现制程端的自我修正。
透过 AI 光学检测与 MES/SPC 系统的无缝整合,企业不仅能提升产线良率,更能建立从「缺陷辨识 → 制程追溯 → 品质修正」的自动化闭环,真正迈向智慧制造与先进封装的可靠量产目标。
五、AI光学检测让你看见传统技术无法发现的关键细节
在先进封装战场上,谁能准确看见关键缺陷,谁就能抢占品质与良率先机。
在 FOPLP、CoWoS、TSV 等先进封装制程日益复杂的今日,制程中任何一个微米等级的刮伤、异物、翘曲(BOW)、透明缺陷都可能影响整体封装良率与产品寿命。传统 AOI 技术在面对透明材质、高反射表面、低对比缺陷时,往往力有未逮,错失了「看不见」的细节。
BUENOOPTICS 和全丰的 AI 光学检测系统,以深度学习与自适应演算法为核心,不仅能大幅提升瑕疵辨识的准确性,更具备自主学习制程变异、修正伪缺陷误判的能力,让 AI 真正成为「制程理解者」而非仅仅是「比对者」。从晶圆表面的刮伤、TSV 通孔异常,到 glass wafer 的微裂痕与面板 warpage / bow 等非线性变形,我们的系统能即时适应不同材料与视角的挑战,在封装每一个关键节点都能稳定守住品质关卡。
AI 光学检测,正在改写先进封装的品质规则与竞争门槛。
https://www.buenooptics.com/post/%E5%BE%9Efoplp%E5%88%B0glasswafer%E7%9A%84%E4%BA%94%E5%A4%A7%E6%87%89%E7%94%A8%E5%AF%A6%E4%BE%8B
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