重上青城山，再出发 | EDA²战略研讨会成功举行

       EDA² 理事长王润声教授、副理事长刁焱秋先生先后登台致辞，共叙四载征程，再启新章。四年前，我们正是在此埋下EDA²战略火种，凝聚“二分天下”战略共识，确立“建标准、推底座、产学研协同创新”三大发展路径。历经四载同心耕耘，今日重返原点，累累硕果已挂满枝头，我们再次集结，不为庆功，只为再出发。

      副理事长刁焱秋先生强调，EDA²沉淀的最大的资产是各界的信任。正是这份信任，让我们在产学研协同创新的道路上，能够凝聚各方力量，共克难关，推动行业发展。

      面向未来，技术浪潮将更汹涌，愿我们以开放之心碰撞思想，以创新之手再绘战略与技术蓝图，以务实之行落地项目。战略从来不是终点，而是新的起跑线——在一起，再出发！

       会议伊始，为感谢原技术管理委员会主任余华涛先生任职期间的辛勤付出与卓越贡献，EDA²理事长王润声教授向其颁发了纪念相册和荣誉奖牌。随后，王润声教授向新任技术管理委员会主任周治华先生颁发聘书，见证新使命的开启。此外，会上还同步颁发了EDA白皮书卓越贡献奖，表彰杰出的EDA白皮书编撰成果，激励更多力量投身于EDA事业的创新与发展。

       EDA²副秘书长肖靖帆先生回顾四年征程：已发布23项团体标准，30余项标准在研，统一了EDA工具与底座的数据接口与格式，破解“卡脖子”难题，终结企业私有标准造成的碎片化、封闭化弊端，打通点工具间的数据孤岛，释放设计数据全链条价值，为产业融合奠定根基。提出通过“研发加速、推广加速、创新加速”三大板块协同发力，推动EDA产业持续向前发展。

      杭州广立微电子股份有限公司技术副总裁潘伟伟女士带来了精彩的国际顶会洞察，深入剖析了DAC、ICCAD、DATE、ASP-DAC四大顶会与半导体技术路线图协同演进关系。国际顶会不仅是技术成果展示的窗口，更是响应、加速和验证半导体技术路线图的关键环节；全球协作机制加速了技术传播与融合，使EDA技术能够快速匹配全球产业需求变化；同时，产学研协同与工业深度参与推动了学术成果转化，并为企业输送了人才。基于此，提炼出“协同演进，健全机制，分层设计，中国挑战”的关键结论，为多元化EDA发展提供了深刻启示。

       华大九天高级产品总监刘晓明先生就技术路线图执行工作作总结汇报，以 “谋长避短定方向，再厉深耕开新局” 为导向，系统介绍了技术路线图建设的总体思路与基于应用的技术路线总体规划。同时，他详解了组织模式构建情况，明确已形成 “总体组 + 分委会” 的高效工作模式，为技术路线图的推进提供了坚实组织保障。

      EDA²秘书长曾璇教授首先以全球视野透视四大国际顶会、IMEC创新研究范式、DARPA组织机制与ASML崛起之路，提炼可借鉴之精髓，继而擘画技术路线图落地之道：通过“官产学”协同、开放共赢与中立合作整合资源、降低风险；组织层面，坚持需求驱动，鼓励容错，以扁平化管理提效增速；技术层面，紧扣半导体节点，以逆袭思维破局攻坚；战略层面，既“不念过往”斩断路径依赖，又“不惧未来”抢先布局新域，构建“需求牵引—开放协作—快速迭代—节点突破”的闭环，持续推动多元化EDA生态建设。

      新任技术管理委员会主任周治华在总结发言中指出，过去四年，EDA² 战略实施成效卓著，希望以本次研讨会为重要契机，进一步锚定未来工作的核心目标、细化实施计划、明确重点任务，以 “同芯聚力” 的信念凝聚各方力量，以 “携手同行” 的姿态深化协同合作，共同推动多元化EDA生态跃上新台阶，全力开创产业高质量发展的崭新局面，在一起，再出发！