光刻与刻蚀技术决定着集成电路精细化发展水平（光刻机篇）

在半导体芯片集成高密化和线路精细化上，光刻与刻蚀承担着重要的工艺角色，尤其是在半导体前道制程中，光刻机与刻蚀机分辨率很大程度上决定了集成电路的制程大小。在这里我们重点阐述光刻产业话题。

各工艺节点对应光刻设备关系

注：90nm以下为等效工艺节点，不代表场效应管的实际沟道尺寸。

数据来源：势银（TrendBank），深芯盟整理

光刻机涉及的内部零件种类众多、精密度极高，且越高端的光刻机组成越复杂，因此光刻机企业往往具备高外采率，与供应商共同研发。

DUV光刻机的主要系统模块

光刻机的关键成套系统包含：

核心系统：光源系统，曝光光学系统、晶圆系统（工件台）及掩膜（光罩）系统。

其他子系统及零部件：自对准系统和调焦调平测量系统，整机控制系统、环境控制系统、传输系统、配套软件系统等。

我国光刻机的研制起步并不晚，早在70年代就研制出接触式曝光系统，由于早期我国半导体产业的整体落后，以及“造不如实”的思潮影响，光刻机产业化落地滞后。2002年ArF光刻机被列入“863计划”、2008年启动“02专项”，光刻机事业才有所进步，但如今依旧有很大差距。

我国光刻机攻坚采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做子系统，再由整机厂进行整机组装及调试。中科院微电子所、长春光机所、上海光机所、清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发，目前干法光刻机的子系统基本通过验收，陆续产业化落地，并继续承担“02”专项进行湿法光刻机子系统开发。

国内半导体光刻机项目及产业化公司及进展

数据来源：势银（TrendBank），深芯盟整理

由势银（TrendBank）主办、深芯盟协办的2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店正式举行，组委会邀请到光刻机解决方案新秀-上海芯东来，为产业带来光刻机本土化机遇与挑战的主题分享。

光刻会议背景

光刻技术作为半导体制造的关键环节，重要性不言而喻。光刻技术通过将设计好的微小图形从掩模版转移到硅片上，为后续的蚀刻、掺杂等工艺奠定基础，其精度和效率直接决定了芯片的性能、集成度和生产成本，是推动半导体产业不断向更高性能、更小尺寸发展的关键力量。

目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域，国内高端光刻胶自给率低，研发和生产技术与国际先进水平有差距，产品性能和质量难以满足高端芯片制造需求。湿电子化学品方面，部分高纯度、特殊配方产品依赖进口，供应受限。掩模版的高精度制造技术难度大，高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升。光刻机更是被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内光刻机企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。

在全球地缘政治摩擦加剧的背景下，半导体产业供应链安全受到严重威胁。为应对这一挑战，我国急需加强光刻技术及相关产业的自主可控能力。2025势银光刻产业大会，旨在汇聚国内光刻技术领域的专家学者、企业代表、行业精英，共同探讨先进光刻技术、光刻材料及设备的最新进展、面临的挑战以及解决方案。通过大会，可以促进产学研用的深度融合，加强国内科研机构、高校、企业之间的交流与合作，加速技术创新和成果转化，推动光刻技术及相关产业的升级发展。同时，大会也将为产业链上下游企业搭建沟通桥梁，促进资源整合和优势互补，构建完整的产业生态体系，提升光刻产业的整体竞争力。

基于此，“2025势银光刻产业大会”将于2025年7月9日-10日在安徽合肥举办。

第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）

第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！

国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）始终立足中国创新沃土，搭建全球对话平台。在国内外光刻专家鼎力支持下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术的全产业链尖端技术对话平台。本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。

IWAPS秉持开放包容的学术精神，邀您在此聆听世界的学术声音，破解技术发展的瓶颈，在深圳-大湾区这一全球半导体产业高地的蓬勃生态中，共筑光刻技术创新未来！让我们相约金秋鹏城，以技术为笔，以合作为墨，共绘光刻技术新蓝图！