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2025 年 3 月，SEMICON China 展会上，新凯来公司首次公开亮相便惊艳全场，一口气展示 31 款覆盖芯片制造全流程的半导体高端制造设备，瞬间成为行业焦点。近期，市场又传出消息，新凯来正在寻求 200 亿元规模的融资，投后估值高达 800 亿元。若融资属实，这极有可能是今年一级市场规模最大的融资活动。
公司概况：出身不凡，发展迅猛
新凯来公司全称为“深圳市新凯来技术有限公司”，于 2021 年 7 月成立，由深圳市深芯恒科技投资有限公司独家设立，而深芯恒背后是深圳市重大产业投资集团有限公司，从股权结构看，它是一家由深圳国资委控股的半导体设备研发和制造企业。
实际上，新凯来脱胎于华为 2012 实验室的“星光工程部”，核心团队成员与核心技术均源自华为。截至 2025 年 8 月，公司员工超 10000 人，相比 2024 年的 5000 人实现翻倍增长。公司秉持“一代工艺，一代材料，一代装备”的技术理念，研发人员是公司核心力量，在公司员工总数中占比超 50%。
为构建强大的研发体系，新凯来在全国多地（北京、上海、武汉、西安等）及海外设立研发中心，形成从材料、零部件到整机的端到端研发布局。在业绩方面，2024 年公司营业收入约 10 亿元；2025 年上半年累计订单已超 12 亿元，全年营收目标直指 25 亿元，展现出强劲的发展势头。
产品矩阵：全流程覆盖，技术亮点突出
新凯来对外披露的信息显示，其核心产品体系已搭建完成，全面覆盖芯片制造全流程，具体产品亮点纷呈：
（一）工艺设备
- 刻蚀设备（武夷山系列）
：支持 5nm 以下先进制程，采用多频电源控制技术，有效提升等离子体密度均匀性，刻蚀速度较国际竞品提升 20%，同时使晶圆成本降低 30%。 - 原子层沉积设备 ALD（阿里山系列）
：原子层沉积精度达 0.1nm，适配 5nm GAA 晶体管工艺，成功突破 ASML 技术封锁。 - 薄膜沉积设备 CVD（长白山系列）
：单腔 4 工位设计，效率提升 30%，兼容 28nm 至 5nm 制程。 - 物理气相沉积设备 PVD（普陀山系列）
：金属镀膜精度达±1.3 微米（仅为头发丝的 1/50），性能媲美应用材料同类产品。 - 外延设备（峨眉山系列）
：专攻 SiC/GaN 功率器件，填补国内第三代半导体制造空白，已应用于新能源汽车芯片制造。 - 热处理设备（三清山 RTP）
：采用磁悬浮技术，实现±0.5℃温控，温控精度比行业标准提升 40%。
（二）量检测设备
- 光学检测（岳麓山 BFI/丹霞山 DFI）
：明场/暗场缺陷检测精度达 0.15μm，适配 12 英寸晶圆厂量产线。 - X 射线量测（天门山系列）
：搭载自研微焦点光源，检测精度突破 5nm，运行稳定性超 2 万小时。 - 物理量测（沂蒙山 AFM）
：原子力显微镜可实现纳米级表面形貌分析。
（三）光刻系统
浸没式光刻机：良率达 92%，综合成本仅为 ASML 方案的 60%。通过自研 SAQP（自对准四重成像）技术，以 DUV 光刻实现 5nm 工艺，绕开 EUV 限制。
供应链与客户：国产自主，客户认可
（一）供应链
新凯来宣称其设备零部件和材料已实现“100%国产自主化”，公开资料显示其部分供应商如下：
- 新莱应材
：提供超高洁净管路系统、真空阀门，2024 年订单超 8000 万元。 - 富创精密
：供应刻蚀机腔体、法兰等精密金属部件。 - 奥普光电
：通过合资公司长光集智提供光刻机曝光系统。 - 至纯科技
：提供湿法清洗设备，订单量同比增长 300%。 - 同惠电子
：供应精密阻抗测试仪，服务华为海思与新凯来研发。 - 路维光电
：作为掩膜版核心供应商，与新凯来存在双向采购关系（新凯来设备亦用于其生产线）。
（二）下游客户
- 中芯国际
：在 28nm 产线验证新凯来刻蚀与 ALD 设备，2025 年采购占比目标超 10%。 - 长江存储
：5nm 刻蚀机通过量产验证，用于 3D NAND 芯片制造。 - 华虹半导体
：12 英寸产线全面导入新凯来光学量测设备。 - 台积电
：启动对新凯来薄膜沉积设备的技术评估，潜在合作值得期待。
机遇与挑战：前景广阔，任重道远
（一）机遇：产业协同，加速发展
新凯来推出的设备在种类和覆盖度上形成矩阵式结构，同时推出重要工艺设备和关键量检测设备，这在国产厂商和国际龙头厂商中均属首次。
作为中国半导体产业最大的终端应用商，华为与新凯来深度合作，使新凯来能在芯片“材料 - 设备 - 制造”的完整产业链上占据先机。作为华为“塔山计划”的一部分，新凯来是构建从 EDA 软件到封装测试完整产业链的重要环节。凭借这一优势，新凯来能优先获取芯片先进制程（如海思）的工艺需求和技术难点，使研发事半功倍，加速半导体设备的迭代升级和商业化进程。
（二）挑战：竞争加剧，验证漫长
- 行业竞争加剧
：半导体设备领域门槛高、技术要求严苛，但毛利丰厚。国外，美国应用材料作为平台型公司，荷兰 ASML（光刻机）、美国泛林（刻蚀和薄膜沉积设备）、日本东京电子（涂胶设备、热处理设备、化学气相沉积设备）、美国科磊（量检测设备）等在不同工艺领域构建了深厚的行业护城河，竞争对手进入难度极大。国内，中微、拓荆、盛美、中科飞测等国产半导体设备厂商在不同工艺领域崭露头角，北方华创虽以打造平台公司为目标，但设备布局也不如新凯来全面。新凯来的加入，无疑将使高门槛的半导体设备行业竞争更加激烈。 - 设备验证周期长
：半导体设备与智能手机、新能源汽车有本质区别，更贴近基础科学（物理和化学），复杂程度和开发难度不在同一量级。对于台积电、中芯国际等晶圆代工厂而言，新设备导入极为谨慎，验证周期长，即使样机验证通过，量产能力仍需进一步验证。半导体设备的积累通常需要几十年多次迭代、试错，新凯来虽具备站在全球发展基础上、有无限量资金支持和最顶级技术团队等优势，但如此短时间内高举高打、快速全面突破，历史上并无类似参照对象。其实际表现仍需市场长期观察和验证，这远比展会上的震撼更具挑战性，也无法通过非真实结果的评价来判定。
新凯来作为半导体设备领域的“新势力”，凭借独特的出身、全面的产品布局和强大的产业链协同优势，展现出巨大的发展潜力。然而，面对激烈的市场竞争和漫长的设备验证周期，其未来发展之路充满挑战。市场正拭目以待，看新凯来能否在半导体设备领域书写新的传奇。
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