【光刻设备】盘点光刻机产业链的国产核心零部件供应商（二）——量/检测设备及计算光刻软件 - 科技区角【光刻设备】盘点光刻机产业链的国产核心零部件供应商（二）—

【内容目录】

1.DUV光刻机简要结构

2.量测/检测相关公司

3.计算光刻相关公司

4.支持国产光刻机产业链的部分学术机构

【湾芯展推荐】本文涉及的企业

禹衡光学，中科飞测，上海精测，东方晶源，部分学术机构。

概述

本文盘点光刻机产业链的部分国产公司及部分学术机构，包含禹衡光学，中科飞测，上海精测，东方晶源，各高校及科研院所。展示了各公司的核心技术、主要产品、产品在光刻机中的应用、竞争优势、部分产品资料，细分赛道还进行了与国际先进技术水平的对比分析。

DUV光刻机简要结构

下图为典型的DUV光刻机结构，已做模块化标注。

光源系统：产生特定波长、功率稳定的激光，为光刻提供能量基础；

光学系统：将光源光束精确传输并聚焦，实现掩膜图案的高分辨率投影；

光罩（掩膜板）系统：承载、移动和定位芯片设计图案的掩膜板，通过透光/遮光区域控制激光投射；

晶圆系统：承载、移动并精确定位晶圆，实现高速扫描曝光与多层图案对齐；

在此过程中，除了本系列前文中提过的“硬件”核心部分，还需要精确的数据采集及数据反馈等“软件”部分。本文盘点国产光刻机产业链中，光刻机量检测及数据部分的相关公司。

量测/检测相关公司

量测/检测是半导体制造的“眼睛”和“医生”，通过对关键工艺参数的精准实时监控及数据采集，量测/检测可以保证半导体制造的良率，是工艺开发迭代、技术升级决策的数据支撑，也是智能化制造的数据库来源。

其中，量测通常指获得精确物理数值的测量，检测通常指识别晶圆或图形/结构缺陷的有无。

量测/检测涉及到的主要的国产公司如下：

禹衡光学

核心技术：

光栅编码技术、全阵列扫描抗干扰技术。

主要产品：

绝对式光栅尺、角度编码器。

产品在光刻机中的应用：

用于光刻机工作台运动控制系统中，高精度的位置测量及数据反馈。

竞争优势：

国内光栅编码器龙头，高端光栅编码器国内唯一供货商，承担国家“02专项”研发任务，打破海德汉（Heidenhain）垄断。目前处于国内领军，国际一流水平。

与国际先进水平对比：

部分产品资料：

JFT-40绝对式光栅尺

JKN-8H光栅角度编码器

资料来源：公司官网

中科飞测

核心技术：

明/暗场纳米图形晶圆缺陷检测技术、三维形貌量测技术（光学+大数据算法）。

主要产品：

无图形/图形晶圆缺陷检测设备、光学关键尺寸量测设备，良率管理软件系统。

产品在光刻机中的应用：

光刻工艺前后的晶圆检测，多次曝光的套刻精度量测，半导体器件的关键尺寸和三维形貌量测。

竞争优势：

国内唯一覆盖28nm以下先进制程的检测设备商，客户包括中芯国际、长江存储。

与国际先进水平对比：

检测灵敏度：KLA（国际龙头）支持5nm以下，中科飞测目前支持14nm量产，7nm验证中。

套刻量测精度：接近ASML的Metrology系统，但多图层叠加量测稳定性待提升。

部分产品资料图：

图形晶圆缺陷检测设备，主要应用于图形晶圆表面亚微米量级缺陷检测。

资料来源：公司官网

上海精测

核心技术：

光学量测技术，电子束检测技术，配套算法与系统集成。

主要产品：

薄膜厚度量测设备，光学关键尺寸量测（OCD）设备，电子束缺陷复查设备。

产品在光刻机中的应用：

光刻掩膜校准，缺陷闭环管理，光刻技术迭代的数据支持

竞争优势：

客户认可：国内唯一实现12寸OCD设备（中芯国际交付）和电子束缺陷复查设备量产的企业，膜厚/OCD/电子束设备均获中芯、长江存储等头部客户重复订单。

资金充足：国家大基金一、二期双重投资，2025年再获增资。

与国际先进水平对比：

部分产品资料：

EPROFILE FD系列，光学关键尺寸和形貌测量系统。可精准表征FinFET器件、三维鳍式晶体管结构，以及垂直堆叠NAND闪存、DRAM存储单元等复杂三维结构的形貌参数。

eView系列电子束晶圆缺陷检查和晶圆分类系统，低能电子束分辨率低至 1.4 纳米，每小时可采集多达 6000 张缺陷图像，适用于先进制程。

计算光刻相关公司

在高精度光刻中，因为光学衍射效应等因素，会导致图形从掩膜板转移到晶圆的过程中发生变形，如下图所示。因此，为了修正转移过程中的图形畸变，需要预先对掩膜板上的图形进行变形设计，这就是计算光刻技术，其核心方法包括光学邻近效应修正（OPC）、光源-掩膜协同优化（SMO）、反向光刻技术（ILT）和多重图形技术（MPT）。