国产光刻机,最新专利曝光!

半导体封测 2025-10-06 21:01
国产光刻机,最新专利曝光!图1

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天眼查平台最新信息显示,上海微电子装备(集团)股份有限公司于专利领域又有新动作——其申请的“一种光束调整装置及光刻机”专利已正式公布,申请公布日期为2025年3月21日,申请公布号为CN119668039A。

国产光刻机,最新专利曝光!图2

该专利属于半导体制造技术领域,聚焦于一种创新性的光束调整装置及配备该装置的光刻机。此光束调整装置结构精巧,主要由支撑座、反射镜组以及驱动机构构成。其中,反射镜组包含镜组安装座和固定在其上的镜组,镜组安装座中心位置与支撑座采用可活动连接方式。

在驱动设计上,两个驱动机构的驱动端与镜组安装座中心位置的连线呈相互垂直状态。这一独特设计使得一个驱动机构的驱动端能够精准驱动镜组安装座绕第一轴线转动,而另一个驱动机构的驱动端则可驱动镜组安装座绕第二轴线转动,且第一轴线与第二轴线相互垂直。如此一来,实现了第一轴线方向转动和第二轴线方向转动的分别独立控制,有效避免了两个方向转动的相互干扰(串扰),极大地提高了控制精度。

上海微电子是我国专注于半导体装备制造的高新技术企业,在集成电路制造设备领域占据着重要地位。公司致力于半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。其产品线丰富,尤其在光刻机等核心设备方面有着深厚的技术积累和卓越的研发能力。

上海微电子一直秉持创新驱动发展的理念,不断加大研发投入,吸引和培养了一批高素质的研发人才。公司凭借先进的技术和可靠的产品质量,不仅在国内市场赢得了广泛认可,还在国际市场上展现出一定的竞争力,为我国半导体产业的发展提供了有力的设备支持,推动着我国半导体产业向更高水平迈进。

 

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