它不是下一个阿斯麦，而是中国半导体生态系统的“造山者”。
作者｜王艺
编辑｜王博
这两天，全球半导体行业的目光聚焦深圳会展中心。
10月15日到10月17日，2025湾区半导体产业生态博览会（简称“湾芯展”）举行。来自全球20多个国家超600家企业及知名院校机构参展，展商涵盖了晶圆制造、先进封装、IC设计和化合物半导体等重点领域。
不过，最热门的展商是一家国产半导体公司——新凯来。
新凯来展位，图片来源：湾芯展
作为本土半导体设备以及零部件领域的黑马，新凯来此前已经引发轰动。
2025年3月26日，在全球规模最大的半导体行业展会SEMICON China 2025上，新凯来展示了31款新发布且实现量产的半导体设备，主要分为工艺装备、量检测装备两大系列，产品型号包括扩散产品、薄膜产品、光学检测产品、光学量测产品等，几乎覆盖了半导体制造全流程装备，引发行业的广泛关注。
就在本届湾芯展开展前夕，市场上传言新凯来将展出“5nm光刻机设备”，直接拉满了行业期待。
这种期待并非“天方夜谭”，上个月举办的华为全联接大会2025上，华为公开了昇腾未来三年的迭代路线图，计划在2026年第一、第四季度分别推出昇腾950PR及950DT，在2027年第四季度推出昇腾960，在2028年第四季度推出昇腾970，全面对标英伟达。
不过，这次新凯来在湾芯展上并未发布外界盛传的“5nm光刻机设备”，但是这并不影响其火热的人气。
「甲子光年」了解到，新凯来在本届湾芯展上带来了两大重磅发布：
新凯来子公司启云方首次向业界发布了两款拥有完全自主知识产权的国产电子工程EDA（原理图和PCB）设计软件，填补了国产高端电子设计工业软件技术空白；
新凯来子公司万里眼发布了90GHz带宽的超高速实时示波器。该新产品极大提升了国产示波器带宽，仅次于国际上最高的110GHz，全球第二，国内唯一，打破了西方《瓦森纳协定》封锁，是全球首个超高速智能示波器、全球首个全面屏示波器。
万里眼发布90GHz超高速实时示波器，图片来源：湾芯展
这标志着中国在EDA与高端测试测量两大“卡脖子”环节实现了从“可用”到“领先”的跨越，也意味着新凯来正构建一个从设计到验证的全栈自主电子工程生态，推动中国电子产业从“造芯”走向“造系统”的新阶段。
新凯来的产品不仅展现了国内半导体设备研发技术的进步，其发展路径也折射出了深圳推动半导体设备自主化的实践方向，并成为我们观察国内半导体产业突围进程的一个缩影。
而这家公司，仅成立四年。
1.新凯来的前世今生
要了解新凯来举足轻重的地位，首先要从中国的半导体设备说起。
半导体设备分为两种，分别是占比88.3%的半导体前道晶圆设备和占11.7%的半导体后道封测设备。行业里讨论比较多的是前道晶圆设备，包括光刻机（占17%）、刻蚀机（占22%）、薄膜沉积设备（占22%）、量检测设备（占12%）、扩散设备、涂胶显影设备等。
在国内市场，很少有公司可以全面覆盖所有设备，一般都是深耕细分行业。但是新凯来不一样，它仅用了四年多时间，就一口气展示了扩散、刻蚀、薄膜沉积、量检测共四大类半导体设备，涵盖EPI、RTP、ICP/CCP、PVD、CVD、PEALD/Thermal ALD、明场/暗场/无图形/掩模版检测、套刻精度量测等细分工艺。
换句话说，新凯来已经可以生产除EUV光刻机之外半导体产业链上的所有设备。
图片来源：新凯来官网
这简直就是市场奇迹般的存在。
除了上述设备，新凯来在光刻机领域也做了布局，内部代号“珠穆朗玛峰”，这也是大家如此期待新凯来在此次湾芯展上发布光刻机的原因——市场猜测该光刻机或将绕过阿斯麦（ASML）的封锁，突破5nm制程，从而在国产替代的道路上前进一大步。
新凯来的诞生有着特殊的时代背景，据《证券时报》、C114通信网等媒体披露，新凯来的前身是华为2012实验室下属的“星光工程部”。
但需要说明的是，截至目前，尚无官方公开文件证实此事。
2018年前后，面对国际供应链风险上升的局面，任正非在白板上写下“生存的关键”，发起“备胎计划”，华为内部的“星光工程”就此启动。星光工程汇聚了华为顶尖人才，积累了20年技术储备，聚焦半导体制造设备的自主研发——包括扩散炉、薄膜沉积设备、光学检测系统等核心工艺设备。
2021年8月，在中国半导体行业被制裁之际，华为将该部门剥离，由深圳市国资委通过深圳市重大产业投资集团重组，成立深圳市新凯来技术有限公司。新凯来注册资本15亿元，实缴资本5亿元，核心技术团队以独立企业的形式加速市场化落地，是一家名副其实的"国家队"企业。
新凯来股权架构，图片来源：天眼查
除了华为，新凯来的团队还引入了另外两方，与华为共同组成了一个“铁三角”。
首先是华为系，以董事长余海为代表，团队以拥有18年精密装备研发经验的骨干为核心，他们曾主导麒麟芯片封装设备等核心项目。
然后是国际专家团队，由来自包括ASML、应用材料、KLA等公司的高管构成，凭借其对EUV光学模块等尖端技术标准的深刻理解，为研发方向提供关键指引。
最后是产业链人才团队，多来自中芯国际，负责打通“设备-晶圆厂”的协同链路。
自成立以来，新凯来发展迅速。2025年3月，在SEMICON China展会上，新凯来首次公开亮相，一口气展示了6大类、31款覆盖芯片制造全流程的半导体高端制造设备，如外研沉积设备（EPI）“峨眉山”、刻蚀设备（ETCH）“武夷山”、化学气相沉积设备（CVD）“长白山”、物理气相沉积设备（PVD）“普陀山”、原子层沉积设备（ALD）“阿里山”等，引起行业高度关注。
有意思的是，新凯来所有设备均以中国名山命名，这被很多人解读为“家国情怀”。
2025年9月4日，在无锡太湖国际博览中心举办的第十三届半导体设备与核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，新凯来公布了亮眼的营收和客户信息：在手订单金额突破100亿元大关，覆盖国内80%的主流晶圆厂，客户阵容涵盖中芯国际、华虹集团、长江存储、深圳鹏芯微等头部晶圆厂，甚至成功向海外晶圆厂销售设备。
新凯来的百亿订单背后，是国产替代的迫切需求。2024 年中国半导体设备市场规模达496 亿美元，但7nm及以下制程的国产化率近乎为0，而下游超50%的新建产能聚焦7nm+制程。其设备在沉积速率控制等核心参数上已接近国际水平，如“峨眉山”外延设备实现了±1%的精度控制，相当于在头发丝万分之一尺度上绣花；
新凯来部分产品适用工艺、适用材料及核心优势
资料来源：艾邦制造、新凯来、芯通社，制图：甲子光年
目前，新凯来已形成以“名山系列” 命名的全产品线，覆盖半导体前道制造全环节，被业内比作“北方华创 + 中微公司”的综合体。这种“全流程覆盖”的产品策略在半导体设备行业极其罕见，即使是国际巨头ASML、应用材料等公司，也主要聚焦于特定的细分领域。
新凯来这种“大而全”的产品布局，既体现了其技术实力，也反映了中国在半导体设备领域“全面追赶”的战略需求。
2.填补国产空白：启云方发布自主EDA设计软件
在本次湾芯展上，新凯来子公司武汉启云方科技有限公司发布的两款国产EDA（电子设计自动化）软件，是本次展会的一大亮点。
EDA（Electronic Design Automation，电子设计自动化）软件是芯片设计的基石，被誉为“芯片之母”，广泛用于芯片设计、芯片封装以及PCB设计环节中。
简单来说，EDA是帮助工程师设计电子产品“大脑”的软件工具，可以帮助工程师用电脑画电路板图、模拟电路信号传输，甚至自动检查设计错误。如果把电子产品比作一栋大楼，EDA就像是建筑设计师的CAD软件，能让工程师高效规划每一个电路细节，确保最终产品稳定运行。
作为电子产品设计过程中不可缺少的重要一环，启云方自主可控电子工程EDA产品的推出，解决了国内半导体及电子工业软件重要短板，成为行业自主化发展的重要里程碑。
长期以来，EDA软件市场被新思科技（Synopsys）、楷登电子（Cadence）和西门子（Siemens）高度垄断，三家企业合计占据了全球超70%的份额。这些企业技术沉淀深厚，支持3nm/2nm等先进制程，工具链覆盖设计、仿真、验证、制造全流程。
中国企业在这一领域一直处于追赶状态，尤其是在高端电子工程设计软件方面，国产化率极低。
国内EDA软件虽有华大九天、概伦电子等龙头企业，部分产品也可支持5nm工艺、模拟电路设计全流程能力也较强，但数字电路的领域领域仍需完善，先进制程支持相较于国外巨头仍然滞后。一旦被国外“卡脖子”，后果严重。
启云方此次发布的两款拥有完全自主知识产权的全国产电子工程EDA（原理图和PCB）设计软件，无疑是在“卡脖子”环节上的一次重要突破。据介绍，启云方电子工程EDA设计软件在电子电路设计重要指标方面（如：超大规模、超复杂、并行设计、智能辅助等）已达业界一流水准，产品性能较行业标杆提升30%，
图片来源：启云方发布会直播
具体而言，该软件支持多人并行协同设计、随时随地在线检视，可以将产品硬件开发周期缩短40%、将智能辅助设计一板成功率提升30%，全面提升作业效率和质量。这对于需要快速迭代、多团队协作的现代电子产品设计来说，意义重大。
图片来源：启云方发布会直播
启云方的EDA软件发布，代表了新凯来在半导体产业链布局上的进一步延伸。如果说此前新凯来主要聚焦在半导体制造设备领域，那么通过启云方进入EDA工具领域，则意味着新凯来开始向产业链上游的设计环节渗透，形成“设计工具-制造设备”的协同布局。
虽然未经证实，但新凯来在某种程度上继承了华为“星光工程部”的基因——不仅要解决制造环节的“卡脖子”问题，更要在设计工具等更上游环节实现自主可控，构建完整的技术体系。
3.打破《瓦森纳协定》封锁：万里眼发布90GHz超高速示波器
除了EDA软件，新凯来另一家子公司深圳市万里眼技术有限公司发布的超高速实时示波器同样令人瞩目。
示波器是电子测试测量领域的核心仪器，被称为“电子工程师的眼睛”。而超高速实时示波器则是其中的顶级产品，主要用于高速数字电路、高速通信系统、光通信、半导体测试等前沿领域。长期以来，这类高端测试仪器市场被美国泰克(Tektronix)、是德科技(Keysight)等公司垄断。
图片来源：万里眼发布会直播
更重要的是，高速ADC(模数转换器)是超高速示波器的核心部件，这类产品受《瓦森纳协定》影响，对中国禁运。这意味着中国企业即使有设计能力，也难以获得关键元器件来制造高端示波器。
万里眼发布90GHz超高速实时示波器，图片来源：湾芯展
据工作人员介绍，万里眼发布的这款90GHz超高速实时示波器，每通道均支持90GHz宽带信号采集，每通道独立支持200GSa/s采样率；每通道最高支持4Gpts深存储，支持实时、分段、高分辨率、峰值检测等多种采集模式。从性能参数来看，90GHz的带宽仅次于国际上最高的110GHz（由是德科技等厂商提供），据工作人员称，该产品性能“目前达到全国第一，全球第二的水平”。
图片来源：万里眼发布会直播
该产品可应用于半导体行业、6G通信、光通信、智能驾驶等领域。在半导体测试方面，随着芯片工作频率越来越高、数据传输速率越来越快，对测试设备的带宽要求也水涨船高，而万里眼示波器90GHz的带宽能够满足当前先进芯片的测试需求。
图片来源：万里眼发布会直播
在6G通信领域，未来的通信频段将进一步向高频扩展，万里眼的90GHz示波器为6G技术研发提供了重要的测试工具。在光通信领域，随着400G、800G甚至更高速率光通信系统的发展，对测试设备的要求也在不断提升，万里眼的这款示波器产品打破了国外的垄断，实现了多代产品的跨越，是在《瓦森纳协定》的封锁下通过自主创新突破关键核心技术的典型案例。
万里眼示波器的发布，不仅填补了国产高端测试仪器的空白，也为中国在相关领域的技术发展提供了重要支撑。更重要的是，它证明了中国在高端测试仪器领域完全有能力达到国际先进水平，甚至在某些方面实现超越。
值得一提的是，万里眼还将这款示波器定位为“全球首个超高速智能示波器”和“全球首个全面屏示波器”，在产品的智能化和用户体验方面都有所创新。这种创新思路体现了中国企业不仅要在技术指标上追赶国际先进水平，更要在产品理念和用户体验上实现超越的雄心。
4.新凯来会成为中国的ASML吗？
在全球半导体产业链中，荷兰ASML无疑是最耀眼的明星。这家公司占领了全球高端光刻机市场，其EUV（极紫外光）光刻机是制造7nm及以下先进制程芯片的必需设备。ASML的EUV光刻机重达180吨，售价超2亿美元，集全球科技大成，代表了人类工业制造的巅峰水平。
面对西方国家对中国的芯片封锁，国人自然希望中国能够出现一个“ASML式”的企业，在光刻机这个最关键的“卡脖子”环节实现突破。因此，每当新凯来亮相展会，总会引发“中国ASML”的联想和期待。
那么，新凯来会成为中国的ASML吗?
从目前的情况来看，答案既是肯定的，也是否定的——这取决于我们如何理解“中国的ASML”这个概念。
首先需要明确的是，新凯来的战略定位并非聚焦于光刻机。
新凯来工艺装备产品线总裁杜立军曾在华为工作多年，是一位“研发老兵”。在今年Semicon China同期举办的IC产业链国际论坛-制造设备与制程分论坛上，杜立军发布了题为《半导体工艺装备的机遇与挑战》的演讲。
杜立军在演讲中提到：“每一代半导体器件的演进，围绕着PPAC的性能指标的提升。随着行业进入到先进工艺时代，半导体制造行业主要围绕着晶体管的尺寸微缩和RC delay这两个方面来解决问题。”
他表示，进入先进工艺时代后，半导体制造行业主要有四大问题：
外延工艺需在更小、更深的结构中精准控制材料生长位置、掺杂浓度与表面形貌；
刻蚀技术面临更精细、更复杂三维结构和超高深宽比的极限挑战；
薄膜沉积必须实现多种新材料在复杂地形上的均匀覆盖与高选择性刻蚀；
金属互连和原子层沉积亟需突破更小尺寸下的电阻、电容及成膜质量瓶颈。
杜立军表示，针对上述问题，主要有三个解决路径，分别是新材料、先进光刻+非光补光和3D架构。尤其是在面临当前先进光刻机在国内被禁的现状，非光补光的重要性不言而喻。诸如多重曝光、自对准和选择性沉积等技术，就是为了突破这个桎梏而做的选择。
“然而，因为这些技术的应用，会在先进工艺演进中，给流程工艺通道增加20%，进而给良率和设备的工艺窗口等带来新的考验。”杜立军接着说。“于是，我们需要围绕着更高的能量控制精度（等离子体/自由基精准控制）、更快的硬件响应速度（气体/能量控制快速切换）和更大的工艺窗口（腔体环境快速稳定）来打造新装备技术。”杜立军说。
如果把杜立军的演讲翻译成更加通俗易懂的语言，或许可以这样理解：既然我们短期内拿不到最顶级的“相机”（EUV光刻机），那我们就把现有的“相机”（DUV光刻机）用到极致，然后把全部精力投入到“暗房技术”（刻蚀、沉积）的精进上，通过极其复杂的后期处理，洗出同样精度的“照片”。
新凯来目前公布的业务版图里，覆盖了刻蚀、薄膜沉积、量测三大关键领域，唯独没有那个万众期待的“光刻”。虽然新凯来子公司上海宇量昇科技正负责研发深紫外（DUV）光刻机，但DUV与EUV在技术路线上存在代际差异。
使用EUV光刻，制造一个关键电路层可能只需要一次曝光，干净利落。而使用DUV光刻加上多重曝光技术（比如SADP/SAQP），则需要在“光刻-刻蚀-沉积-再刻蚀”的循环中，增加几十个甚至上百个步骤。这个过程，每增加一步，都意味着生产周期的延长、成本的增加，以及引入致命缺陷的风险指数级上升。这笔高昂的代价，行业内称之为“工艺税”。
谁来支付这笔巨税？答案是新凯来和它背后的“国家队”。
新凯来的刻蚀机，就是那把能精确剔除多余材料的“刻刀”；它的原子层沉积(ALD)设备，就是那支能均匀涂覆纳米级“侧墙”的“画笔”；它的量测设备，则是在这上百个繁复步骤中，确保每一层电路都能像高楼大厦一样完美对齐的“激光水平仪”。
从技术角度看，中国在短期内(10~20年)要制造出与ASML竞争的EUV光刻机，面临巨大挑战。根据高盛的研究报告，从65nm到3nm以下需要20年，需重构一个囊括顶尖光学、超高功率激光、皮米级精密制造的全球供应链。为达成这⼀⽬标，需新增2261台光刻系统，其中包括212台EUV 光刻设备，相应的研发投⼊以及资本⽀出预计将⾼达400亿美元。
《China capex continues to grow;migration ongoing despite challenges》，图片来源：Goldman Sachs
因此，如果将“中国的ASML”狭义理解为“在光刻机领域复制ASML的成功”，那么新凯来显然不是，也不打算成为这样的企业。
然而，如果我们将视角放宽，从ASML在全球半导体产业链中的地位和作用来理解“中国的ASML”，那么新凯来确实具有这样的潜力。
ASML的价值不仅在于它制造了世界上最先进的光刻机，更在于它在半导体制造设备领域的体系化能力——整合全球供应链、协调上下游生态、推动技术标准演进。
从这个角度看，新凯来正在成为中国半导体设备领域的“总集成商”和“生态构建者”。这是一条“用空间换时间”的现实主义路线，新凯来通过以下四大能力支撑这一宏大战略。
第一，全流程设备覆盖能力。 新凯来是国内极其罕见的能够提供除光刻机外，覆盖扩散、刻蚀、薄膜沉积、量测等几乎所有核心环节设备的厂商，可以为晶圆厂提供一站式解决方案。
第二，强大的产业链整合能力。 新凯来继承了华为世界级的系统工程与供应链整合能力，扮演着国家级“总集成商”的角色，将国内产学研的零散成果，整合成能进入晶圆厂稳定运行的“装备军团”，并带动了利和兴、新莱应材等一批上游供应商共同成长。
第三，非对称的技术路线创新。 新凯来与华为联合申请的SAQP（自对准四重成像）专利，正是在“F1赛道”（EUV）被禁赛后，选择在“达喀尔拉力赛”（DUV多重曝光）上做到极致的体现。这条路线覆盖了全球90%以上的芯片需求，为中国在绝大多数芯片领域实现自主可控提供了基础保障。
第四，过硬的市场验证与商业化能力。 新凯来的设备已在国内主流晶圆厂得到验证，其刻蚀设备在中芯国际14nm产线的良率稳定在92%。
回到最初的问题：新凯来能成为中国的ASML吗？
更准确的答案或许是：ASML和它的EUV生态，像一棵需要全球气候滋养的参天巨木。而新凯来和它的伙伴们，则致力于将整片山坡改造成一片能适应本土气候、盘根错节的茂密丛林。短期内，丛林的高度无法企及巨木，但假以时日，谁的生命力更顽强，尚未可知。
新凯来的出现，揭示了中国半导体产业突围的另一种可能：胜利不取决于单兵最强战力，而取决于整个作战体系的韧性和协同能力。当外界还在争论中国何时能造出“红衣大炮”（EUV）时，中国已经悄悄构建了一套由无数“精准步枪、迫击炮、侦察兵”协同作战的现代化体系。
新凯来，就是这个体系的军火库和作战指挥中心。
所以，一个更值得思考的问题是：当中国不再需要ASML时，那将是一个怎样的世界？新凯来，就是这个未来投下的一道最清晰的影子。
（封面图来源：湾芯展）
END.
