ASML EUV光源功率突破1000瓦，2030年晶圆产能有望跃升50%

【区角快讯】荷兰光刻设备巨头ASML近日宣布，其研发团队已成功开发出将极紫外（EUV）光刻机光源功率由600瓦提升至1000瓦的可行方案。据公司首席技术专家Michael Purvis透露，该成果并非仅限于实验室环境下的短暂验证，而是一套可在客户实际产线中长期稳定运行的完整系统。


随着光源功率正式迈入千瓦级门槛，EUV光刻设备的生产效率将迎来显著提升。ASML内部测算显示，到2030年，单台光刻机每小时可处理的晶圆数量将从当前的220片增至330片，产能增幅达50%。尤为关键的是，这一跃升并未带来单位晶圆制造成本的明显上升，基本维持原有水平。


这意味着芯片制造商无需扩建洁净室或购置全新设备，仅通过对现有EUV光刻机进行性能升级，即可实现产能的大幅扩张。然而，该技术的具体商用时间表尚未明确。有行业观察人士推测，ASML可能以升级套件方式向客户提供服务，但并非所有现有机型均支持此项改造，适配机型范围仍有待官方进一步说明。


值得注意的是，1000瓦并非ASML的技术终点。Purvis表示，团队目前已规划通往1500瓦的清晰路径，并认为从物理原理上讲，未来实现2000瓦亦无根本性障碍。随着光源功率持续攀升，EUV光刻机的产能上限将进一步被打破，为应对下一代高性能芯片日益复杂的制造需求奠定基础。


在全球先进制程竞争加剧的背景下，ASML此次技术突破不仅巩固其在高端光刻领域的垄断地位，也为半导体产业的产能弹性与成本控制提供了关键支撑。