突发!美国拟全面管制DUV光刻机出口

52RD 2026-04-04 15:32

  2026年4月3日,据路透社报道,美国跨党派议员正式提出《MATCH法案》草案,拟进一步收紧针对中国的芯片制造设备出口限制,荷兰ASML、日本尼康等企业均被纳入管控范围。

  该法案重点瞄准浸润式DUV光刻机相关企业,计划全面禁止相关设备对华销售及售后服务支持。

  在此之前,美国已实施多轮出口管制,但仅局限于ASML最先进的光刻机产品;若此次新法落地,或将全面封堵成熟制程DUV设备对华出口。

  2025年,中国是ASML全球第一大市场,贡献其总营收的33%。ASML曾在今年1月预测,2026年该占比将回落至20%。

  针对该法案,ASML于周五表示不予置评。

  荷兰外交部(主管贸易及出口管制)发言人则称:“对于其他国家议员提出的法案草案,我们不便发表评论。”

突发!美国拟全面管制DUV光刻机出口图1
本文由作者原创,52RD转载是为分享该信息或观点,不能代表对观点的支持,如果有任何异议,欢迎联系我们。

声明:内容取材于网络,仅代表作者观点,如有内容违规问题,请联系处理。 
光刻
more
SK海力士扫货EUV光刻机
向全世界宣布!国产光刻机新突破,荷兰慌了、阿斯麦CEO首次表态
突发!美国拟全面管制DUV光刻机出口
直写光刻设备“小巨人”,芯碁微装冲刺港交所
三星半导体工艺(三)-光刻工艺
国产光刻胶开启“钳形攻势”
2026中国光刻机产业深度分析报告
ASML,下一代EUV光刻机来了!
安徽半导体直写光刻设备“小巨人”,冲刺港交所!年入14亿,市值236亿
微软背书!这家公司研发0.1nm光刻技术
Copyright © 2025 成都区角科技有限公司
蜀ICP备2025143415号-1
  
川公网安备51015602001305号