ASML,下一代EUV光刻机来了!

半导体产业纵横 2026-02-27 17:51
 
 
ASML,下一代EUV光刻机来了!图3

新设备的单台造价约为4亿美元,是第一代EUV光刻机的两倍

ASML,下一代EUV光刻机来了!图4

 

ASML的一位高管表示,其下一代芯片制造设备已准备就绪,制造商可开始将其投入大批量生产,这标志着芯片行业迈出了重要一步。

这家荷兰公司生产全球唯一的商业化极紫外(EUV)光刻机,这是芯片制造商不可或缺的关键设备。ASML的数据显示,这款新设备将省去芯片制造过程中几个昂贵且复杂的步骤,从而帮助台积电和英特尔等芯片制造商生产出性能更强、能效更高的芯片。

ASML首席技术官Marco Pieters周三表示,公司计划于周四在圣何塞举行的一场技术会议上发布这些代表重要里程碑的数据。

ASML耗费数年时间才研发出这款昂贵的下一代设备,而芯片制造商也一直在试图确定在哪个时间点将其投入量产才具备经济效益。

鉴于现有的EUV设备在制造复杂AI芯片方面的能力已逼近技术极限,被称为高数值孔径(High-NA)EUV的下一代光刻机对于AI行业改进OpenAI的ChatGPT等聊天机器人至关重要,它能帮助芯片制造商按时推进其AI芯片路线图,以满足激增的市场需求。

新设备的单台造价约为4亿美元,是第一代EUV光刻机的两倍。

Pieters表示,ASML的数据显示,High-NA EUV设备目前的停机时间很短,已处理了50万片餐盘大小的硅晶圆,并且能够绘制出足够精确的图案来构成芯片上的电路。综合来看,这三项数据表明该设备已为制造商做好了准备。

“我认为审视已完成的学习周期数量,目前正处于一个关键节点,”他补充道,此处指的是客户在该设备上进行的测试数量。

尽管技术上已准备就绪,但各公司仍需两到三年的时间进行充分的测试和开发,才能将其完全整合到制造流程中。

Pieters表示:“(芯片制造商)拥有验证这些设备所需的全部知识。”

Pieters还提到,该公司目前已实现了约80%的设备正常运行时间,并计划在年底前将这一比例提升至90%。Pieters表示,ASML计划发布的成像数据足以说服客户,让他们相信只需单次High-NA曝光步骤即可取代使用旧一代设备的多个步骤。该设备已处理的50万片晶圆帮助公司解决并排除了许多技术难题。

ASML,下一代EUV光刻机来了!图5 ASML 2025年总净销售额为327亿欧元

ASML发布2025年度业绩报告。财报数据显示,ASML 2025年总净销售额327亿欧元,其中来自亚洲的营收为281亿欧元;来自美国的营收为41亿欧元;来自欧洲、中东和非洲地区的营收为5亿欧元。毛利率为52.8%,净利润为96亿欧元;研究与开发费用支出为47亿欧元;系统销量为535台,包含48台极紫外光刻系统、279台深紫外光刻系统以及208台计量和监测系统。

ASML,下一代EUV光刻机来了!图6
ASML,下一代EUV光刻机来了!图7

ASML执行副总裁兼首席财务官罗杰·达森表示:ASML而言,这又是硕果累累的一年。正如预期,在人工智能持续增长的推动下,销售额增长了15.6%。得益于 TWINSCAN NXE:3800E 的强劲销售, EUV 业务表现良好。这款 NXE 系列的最新产品广受客户好评,因为它能显著提高生产效率,帮助客户实现更高的晶圆产能。

ASML还进行了大量的TWINSCAN NXE:3800E现场升级,导致EUV系统收入的很大一部分转移到了已安装基础收入。在中国的DUV业务表现强于预期,抵消了中国以外地区DUV业务略低于预期的影响,因为中国以外的主流业务依然疲软。

ASML,下一代EUV光刻机来了!图8 2025年的关键动态

罗杰·达森表示,今年有三个重要因素。首先,部分客户明显感到不确定性加剧,他们担心所需设备的成本可能会大幅上涨,因此对投资建设大型制造基地持谨慎态度,这是可以理解的。 其次,虽然人工智能相关需求持续激增,但2025年上半年其他领域的需求相对低迷。 最终,抓住人工智能带来的机遇的客户数量开始增加。

在研发方面,ASML正在利用人工智能来缩短新产品和服务的上市时间;人工智能也在多个运营领域、客户支持以及公司的各项职能(包括财务、IT、人力资源、法律和合规)方面为公司提供帮助。

展望2026年,ASML预计总净销售额将在340亿欧元至390亿欧元之间。预计毛利率在51%至53%之间,同时年化有效税率约为17%(基于美国通用会计准则)。

受先进逻辑和DRAM市场发展趋势的影响,EUV光刻业务的收入将在2026年显著增长。对于非EUV光刻业务,预计2026年的收入将与2025年持平。总而言之,在强劲的市场动态和产品服务的稳健战略路线图的支撑下,ASML的长期前景依然稳健。

*声明:本文系原作者创作。文章内容系其个人观点,我方转载仅为分享与讨论,不代表我方赞成或认同,如有异议,请联系后台。

ASML,下一代EUV光刻机来了!图9

 

声明:内容取材于网络,仅代表作者观点,如有内容违规问题,请联系处理。 
光刻
more
聚焦12英寸硅片/光刻胶:半导体材料赛道掀扩产热潮
净利润增超70%,这家光刻胶公司用技术破局赢得国产替代加速度
让中国光刻机变“废铁”?中方48小时两条新规落地,日本彻底慌了
台湾评论员:一旦中国掌握先进光刻机,倒闭是ASML唯一的出路?
日媒:光刻胶卡脖子才刚开始,中国半导体想追上我们?至少还差二十年!
日本评论员:中国EUV光刻机迟迟没有进展,和日本合作是个不错的选择
日本媒体:光刻胶、抛光液、电子特气三大命门在手,中国芯片产业注定绕不开日本
成交金额1.1亿元!国产光刻机中标,660亿概念股直线拉升
正式官宣!中国2026年量产光刻机,阿斯麦CEO首次表态:以后可能要向中国买了
性能丝毫不差!中国新型芯片绕开光刻机卡脖子环节
Copyright © 2025 成都区角科技有限公司
蜀ICP备2025143415号-1
  
川公网安备51015602001305号