据9日报道，政府决定简化引进极紫外（EUV）光刻设备所需的安全许可程序。该设备是半导体生产的关键工具，利用极紫外光绘制半导体电路，对于生产7纳米及以下的高级半导体至关重要。
目前，将这套设备运入该国需要15天时间。这是因为该设备使用了少量高压气体，必须根据《高压气体安全管理法》接受各种技术检验。据说，其他半导体设备进口国家和地区，例如美国和台湾，并没有这项程序。
对此，总部位于荷兰的全球最大半导体设备公司、也是全球唯一一家半导体设备出口商ASML韩国分公司负责人，在由韩国总统李在明主持的会议上，要求改进监管规定。据悉，韩国产业通商资源部已开始采取后续措施。如果系统得到改进，目前约15天的审批流程有望缩短至两天。
据朝鲜商业新闻报道，ASML韩国总裁崔汉钟在去年12月10日由总统主持的“人工智能时代、韩国半导体愿景和发展战略简报会”上提议“简化EUV光刻设备的安全许可规定”。
崔先生表示：“在美国、台湾和欧盟，（安全）检查均按照国际标准在企业内部进行，之后（EUV光刻设备）即可安装运行。但在韩国，企业若要安装此类设备，不仅新设备需要进行文件检查、中期检查和最终检查，升级或搬迁设备时也同样需要。” 他补充道：“请放宽监管，使韩国半导体制造商能够与海外竞争对手公平竞争。”
对此，产业通商资源部部长金正冠对总统表示：“在我看来，这是一项不必要的规定，但既然它已经存在，我们也会采取行动。”
据朝鲜商业新闻网报道，韩国产业通商资源部计划在今年上半年修订《高压气体安全管理法》的实施细则，大幅简化极紫外光刻设备的安全检查程序。据悉，该部门将不再把极紫外光刻设备统一归类为高压气体设施，而是将其单独列为“特定设备”，并采用更短的检查方法。预计检查时间将缩短至两天以内。
业内人士表示，由于EUV光刻设备具有一定的安全性，应该完全排除在高压气体法规的适用范围之外。韩国半导体产业协会执行董事安基铉表示：“如果放宽法规，企业的负担会减轻，但我们仍然要遵守一项在海外并不存在的规定。”
参考链接
https://biz.chosun.com/en/en-policy/2026/02/09/HDUK5ZW555A7ZLO37PSXVWJUJE/
（来源：编译自chosun）
