据韩联社和路透社等媒体报道，存储巨头SK海力士公司正在引进EUV（极紫外）光刻设备，以加快产能扩张和向先进工艺过渡。
报道称，SK海力士于3月24日宣布，引进荷兰设备制造商ASML的EUV光刻设备。
此次采购总金额约为11.9496万亿韩元（约合79.7亿美元），占SK海力士2024年底总资产的9.97%。该笔资金涵盖了设备引进、安装和调试的费用，整个交付与部署周期将持续约两年，直至2027年12月。
这项投资是为了应对通用DRAM以及人工智能（AI）内存（包括高带宽内存HBM）不断增长的需求。考虑到服务器和移动设备等下游行业对通用内存的需求稳步增长，该公司计划专注于保障稳定供应。
具体而言，SK海力士计划加快向第六代（1c）工艺的过渡，并通过引入EUV设备来扩展AI存储器产品组合。
1c工艺是SK海力士在全球范围内率先开发的技术，计划应用于下一代HBM、DDR5和LPDDR6等主要产品线。
此前，SK海力士相继开发出1c DDR5 DRAM和LPDDR6产品，确保了其在先进制造工艺方面的竞争力。该工艺的特点是能显著提高生产效率、能效以及数据处理速度。
值得一提的是，在购买EUV设备的同时，SK海力士也在加速产能扩充，致力于扩大生产基地。据报道，SK海力士近期在其位于清州的M15X工厂启用了第二个洁净室，并开始安装设备，比原计划5月份的进度提前了两个月。至此，M15X的两间洁净室均已准备就绪，即将全面投入运营。此外，SK海力士还计划扩大龙仁一期工厂的生产规模，并预计于2027年2月开始洁净室运营。
SK海力士一位负责人表示：“我们将通过向先进的EUV工艺转型，增强在人工智能存储器领域的竞争力，并稳步扩大通用存储器的供应。我们将巩固市场领先地位，以应对全球存储器需求的激增。”
