【区角快讯】在央视财经《对话》栏目最新一期节目中，中微半导体董事长尹志尧的一番表态引发行业震动：“我们现在已经有能力来做最先进的设备。”这位被誉为“中国刻蚀机之父”的领军人物，不仅展示了技术自信，更披露了一段令人咋舌的研发奇迹。2023年12月，面对此前完全依赖进口的17种大平板工艺设备，中微决定进军这一重达150吨、长宽各15米、高达两层半楼的庞然大物领域。按常规经验，此类复杂设备的开发周期需3至7年，但中微团队仅用12个月便从白纸起步打造出可运转原型，不到4个月即满足客户下一代标准，18个月后便成功通过产线核准并交付。这种“中微速度”，折射出中国半导体装备业从跟随到并跑乃至领跑的深刻变迁。
尹志尧的个人履历，本身就是一部浓缩的中国半导体奋斗史。1944年生于北京的他，早年在中国科学技术大学及北京大学打下坚实科研基础，随后赴美深造，获加州大学洛杉矶分校物理化学博士学位。在硅谷深耕二十载，他先后任职于英特尔、泛林半导体及应用材料公司，历任首席技术官、副总裁等要职，手握数百项专利，被业界公认为“硅谷最有成就的华人之一”。2004年，60岁的尹志尧做出惊人抉择：放弃百万年薪，回国创业。值得注意的是，当时所有随行员工不得携带任何文件，仅凭空白电脑从头开始，这种“清零”式的创业决心，奠定了中微坚持自主创新的基因。
历经22年发展，中微公司已成长为市值突破2714亿元的巨头，其等离子体刻蚀设备成功打入台积电5nm、3nm先进制程供应链。尹志尧本人的身份也发生了标志性转变：从中微2022年年报显示的美国国籍，变更为2024年年报中的中国国籍。2026年1月8日，中微发布减持公告，尹志尧计划减持不超过29万股（占总股本0.046%），原因明确为“因本人已从外籍恢复为中国籍，为依法办理相关税务的需要”。这一细节，不仅是个人身份的回归，更象征着中国科技人才与本土产业深度的利益绑定。
刻蚀工艺作为晶圆制造中难度极高的一环，涉及离子轰击与活性粒子反应，需在头发丝直径几千分之一甚至万分之一的尺度上精准去除材料。随着新电子材料集成及器件尺寸缩小，对刻蚀均匀性、稳定性的要求愈发严苛。中微开发的CCP及ICP单双台机，覆盖了90%的刻蚀应用，助力芯片制造商加工10nm至5nm及更先进节点，凭借成本优势获得中芯国际等客户青睐。然而，国产设备的突围并非易事。中芯国际创始人张汝京在节目中坦言，试用新设备风险巨大，双方采取“小批量试错”策略，从5片、25片逐步增至100片，且初期设备由中微投资者提供，测试时间与芯片成本由中芯承担。“如果没有人使用国货，怎么会进步呢？”张汝京的反问，道出了产业链上下游协同创新的真谛：只有在实际使用中发现问题、改进问题，国产设备才能真正实现迭代升级。从尹志尧的归国创业到中微的技术突破，再到下游客户的包容支持，这条闭环生态链的形成，或许比单一技术的突破更具深远意义。
