近期，美国与荷兰之间，围绕全球最先进的EUV光刻机设备再起争端。
6月19日，彭博社消息显示，美国商务部长卢特尼克在一场闭门会谈中，向荷兰光刻机巨头ASML高层提出质疑。美方认为，ASML的EUV光刻机疑似违反美国牵头的出口管制规定，已经流入了中国大陆市场。
对于美方的质疑，ASML直接予以否认。ASML官方表态称，公司从未向中国大陆发运过任何一台EUV光刻机整机，也没有交付过配套的专用组件、模块和相关设备，不存在违规出货的情况。
为自证清白，ASML专门向美方提交了一份说明文件，明确表示没有任何证据显示中国大陆拥有EUV光刻机。文件统计数据显示，目前全球在役的EUV光刻机有314台，另有26台已经退役，中国大陆境内的EUV光刻机数量为零。
ASML强调，自身一直严格遵守各国出口管制政策，从未向中国大陆交付过EUV整机系统。与此同时，美国商务部只是口头提出质疑，始终没有向ASML和外界出示任何实质性证据。
美方则坚持表示，自己掌握了ASML向中国输送EUV相关零部件、配套设备的证据，但以“内容过于敏感”为由，拒绝公开相关材料。面对美方的口头指控，ASML整理了详细说明材料递交给美国方面，逐条解释为何美方的说法站不住脚。
首先，EUV光刻机是体量极大、结构极其复杂的尖端设备。整台机器重量达到180吨，体型相当于一辆校车，由十万个零件组成，供应链遍布全球数千家企业，整合了德国镜头、美国光源、欧美日多国精密材料等核心技术。
这台设备从运输、装机、调试到后续维护，全程必须由ASML原厂工程师操作，仅安装调试就需要数月时间，客户根本无法自行拆解、移动设备，后期长期运维也离不开原厂人员驻场支持。
如此庞大的设备只能拆分分批运输，落地后必须匹配专用厂房和高标准洁净车间，还要经过长期校准才能正常使用。想要绕过海关和供应链记录，偷偷把完整的EUV设备运进国内、还能正常投入使用，基本没有可能。
其次，ASML内部对EUV核心技术设有严格的隔离机制。公司专门划分权限，能够接触EUV核心技术、技术资料和培训内容的员工，和普通员工完全隔开，权限互不互通。而ASML的中国团队全部在隔离权限之外，根本接触不到EUV的核心技术细节。
在ASML看来，美方口中所谓的“证据”，大概率只是二手市场流通的零散配件、普通零部件。这种零部件的跨境流转，在全球半导体二手行业十分普遍，并不涉及整机设备和核心技术外流，不能算作违规出口EUV设备。
ASML首席执行官傅立奇也公开表示，EUV光刻机是数十年技术积累的产物，仅核心光源这一项技术，就耗费了近二十年时间才研发成功。他认为，哪怕外界拿到一些零散配件，只要没有接触过完整整机、没有整套技术体系，根本不可能逆向仿制出EUV光刻机，所谓靠零部件“偷师造机”的说法并不现实。
目前这场美荷之间的EUV管制争议依旧僵持不下：美方一直声称手握敏感证据，却始终不肯对外公开，整场争议至今没有清晰定论。
