美初创获能源部大奖，拟以X射线光刻挑战ASML垄断

【区角快讯】半导体设备领域的“皇冠明珠”长期被荷兰巨头阿斯麦（ASML）牢牢掌控，其极紫外（EUV）光刻机单台售价高达4亿美元（约合27亿元人民币），内部零件逾十万个，年研发投入更达50亿美元之巨。然而，一家名为Inversion Semiconductor的旧金山初创企业，正试图通过一条截然不同的技术路径打破这一僵局。该公司近日斩获美国能源部“Genesis Mission”（创世纪任务）奖项，该计划旨在推动人工智能在科学与工程前沿的应用落地。

与传统EUV光源不同，Invision Semiconductor的方案是利用高功率激光轰击气体（推测为氢或氦），激发超高温等离子体，使电子在磁场结构中高速振荡并发出波长极短、近乎X射线的光源。据称，这种光源每秒可产生5亿次脉冲，频率较ASML每秒轰击锡滴5万次的方案高出整整一万倍。公司创始人形象地比喻道，ASML的光线如同灯泡般向四周散射，需依赖昂贵且复杂的光学镜片组进行收集；而他们的技术则类似激光，光束集中且笔直，大幅简化了光学系统的设计难度。

凭借这一颇具颠覆性的构想，该公司已成功获得Y Combinator和Entrepreneur First两家知名机构提供的50万美元（约338万元人民币）种子前投资，并额外赢得75万美元（约507万元人民币）的政府资助，这笔资金将与劳伦斯伯克利国家实验室共享使用。不过，从理论到现实的距离依然遥远。公司坦诚，距离制造出首台测试样机仍需数年时间。尽管其核心激光器体积已从数个足球场大小缩减至长约30米、宽5至10米的规模，但仍属庞然大物。若该技术最终得以验证，芯片制造速度有望提升15倍，这不仅意味着产能的爆发式增长，更可能引发芯片价格的显著下调，从而真正重塑全球半导体供应链格局。