黄仁勋：只需三四，中国将拥自主先进光刻机！

中国近年在技术自立方面的进展有目共睹，但迄今仍未能开发出与 ASML 水平相当的光刻设备。这一短板已经严重制约了国内半导体产业。不过，英伟达首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）认为，中国只需再过三四年，就能开发出自己的先进光刻系统。这些系统能先进到什么程度，仍有待观察。

黄仁勋在 All-In 播客采访中说：“他们会在 2030 年前做到。2030 年就在眼前。理解中国，关键在于它非常擅长大批量生产。这只是时间问题……所以两三年只是一瞬间，算不上什么。在他们看来，已经到了。”