全球首发 | 光联芯科重磅发布“至微”系列 ZW1000 硅光无掩膜可编程光刻机

CIOE中国光博会 2026-09-09 22:55


27届中国国际光电博览会(CIOE 中国光博会)期间,光联芯科全球首发国际领先的晶圆级微环波长修调工艺设备——ZW1000硅光无掩膜可编程光刻机


作为全球首台专属光刻装备,ZW1000 实现了5小时完成整张晶圆检测 -修调-出货,一站式解决高精度微环制造的良率瓶颈,为智算中心网络的大规模光子互连构筑全新产业化基石。



展品速览:全球首台微环波长专属修调设备

全球首发 | 光联芯科重磅发布“至微”系列 ZW1000 硅光无掩膜可编程光刻机图2

产品名称:ZW1000 硅光无掩膜可编程光刻机

首发类型全球首发

核心定位专为硅光芯片大规模量产打造的晶圆级波长/相位修调

处理效率5小时完成整张12英寸晶圆的端到端检测与修调

应用领域AI 智算中心网络、光互连(Optical I/O)、高密度硅光收发模块


核心技术架构与亮点


ZW1000 采用创新的光机电高度协同系统,打破了传统制造工艺公差带来的波长漂移壁垒:


彻底摆脱传统物理掩膜版(Reticle)的成本与长周期限制,基于预检数据,对晶圆上的目标微环进行高速、任意点位的动态定位与精准曝光。

创新利用局部激光退火微调硅材料光学折射率,实现微环波长皮米级(pm)超高精度修调与离散度补偿。

微环波长不再受制于固定的刻蚀公差,支持根据各类通信协议标准与通道网格自定义目标波长,出厂前赋予芯片可编程能力。


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ZW1000 硅光无掩膜可编程光刻机整机图

修调效果对比:从“被动报废”到“确定性量产”


微环谐振器对工艺公差极其敏感。传统工艺下光子波导1nm的线宽偏差会导致谐振峰严重偏离通道网格,造成芯片大量报废;ZW1000将微环制造由被动筛选转变为主动精准修调


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晶圆微环波长修调前 vs 修调后对比图



赋能智算中心,加速光子互连规模商用


 AI 智算大模型时代,高密度、低功耗的微环芯片是突破算力互连瓶颈的核心方案。ZW1000填补了微环芯片工业化量产中高通量修调装备的空白:


1、大幅提升量产良率,显著摊薄单颗硅光芯片的制造成本。

2、打通量产最后一公里,为大规模 AI 集群光子互连商用提供确定性的底层装备保障。

3、加速推动了光联芯科GC1000 3.2T/6.4T MR-NPO光引擎产品的规模化落地。


关于光联芯科

光联芯科是国内光互连(Optical I/OOIO)领域的创新引领者,聚焦高性能计算与下一代超大规模智算集群的片间光学互连。


公司以硅光与电驱动芯片的协同设计及光电融合封装为核心,在芯片封装内直接实现电信号到光信号的高效转换,大幅降低传输功耗与延迟,提供超高密度、超大带宽的光互连解决方案。同时,光联芯科积极布局晶圆级底层制造装备与先进工艺创新,从芯片架构到量产母机全链路赋能光子互连产业化落地。


9月9-11日,欢迎业界同仁莅临CIOE信息通信展12号馆12D81展位,了解ZW1000 详细技术方案及晶圆修调设备。


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