展会时间：2026年9月9-11日
展示企业：璞璘科技(杭州)有限公司
展位号：AR&VR展2号馆2A150展位
产品推介：“气—辊”一体压印设备、复合模板压印设备、步进拼版压印设备、高折射率纳米压印胶、 耐高温光学压印专用材料、硅透镜专用刻蚀压印胶、生物芯片检测专用压印胶等。
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图1：PL-AR200 “气—辊”一体压印设备
产品优势：
首创“气压—辊压”集成方案，一台设备兼容气压、辊压两种压印模式。既满足客户对成熟辊压工艺的心理需求，又为尝试高均匀、高保形气压压印提供验证平台，实现成熟工艺延续与技术创新升级的无缝衔接。
图2：a. 复合模板压印设备；
b-c. 拼版示意图和拼版压印实例
产品特点：
基于璞璘独创的复合模板技术开发而成，融合弹性贴合与高精度图形复制优势，具备优异的非超净环境适应能力和衬底兼容性，可便捷实现小尺寸模板的步进拼版功能，满足多种应用场景下的高保形压印需求。该设备为微纳制造领域的工艺探索、技术研发及快速验证提供了灵活、高效的压印解决方案。
图3：PL-SR5300步进拼版压印设备
产品特点：
采用自主研发机械硬板压印架构，兼具亚微米级套刻精度与12英寸衬底步进拼版制造能力。设备单步压印面积最大可达4 × 4 cm²，通过多种涂胶工艺协同优化，实现TTV 3 μm以下的高均匀性控制，支持微透镜阵列、高分辨光栅等关键微纳结构的超低残余层压印。为硅光器件、光模块、微纳光学及先进半导体制造提供高精度、高效率、可靠的产业化压印解决方案。
图4：高折射率纳米压印胶UVA老化性能
产品特点：
PL-R-DHR-AY系列高折射率压印胶经过UVA-340紫外老化循环测试，展现出优异的耐候稳定性和光学性能保持能力。以1.9折射率材料DHR-AY1900为例，相比同折射率竞品材料，其抗紫外衰减优势显著：老化过程中折射率保持稳定并呈小幅上升趋势，膜厚损失仅为9.5%，显著低于竞品23.3%的膜厚收缩。对于1.8和1.75折射率系列材料，经过长期紫外老化后，同样表现出稳定的折射率保持能力，膜厚损失分别降低至6.9%和2.4%。同时，材料光学消光系数变化平缓，无明显黄化突变现象，体现出优异的长期光学可靠性。
图5：材料的TG曲线
产品特点：
PL-R-TS系列耐高温光学功能压印胶材，具有1.50–1.54可调折射率范围，专为半导体、高温光学微纳制造等严苛应用场景开发，可满足200–380℃长期高温工况需求。材料3%热失重分解温度超过380℃，在高温烘烤、金属蒸镀及多气体刻蚀等复杂制程中保持优异的结构稳定性，有效抑制热收缩、开裂等失效风险。该系列材料具备优异光学性能，可见光透光率超过95%，低雾度特性保障精密光学成像效果。材料兼容多种纳米压印设备，支持旋涂成膜与UV快速固化工艺，可作为高温压印层、光学封装层等功能材料应用，并适配硅透镜、碳化硅器件、变周期光栅等高温微纳制造流程。
图6：硅透镜刻蚀实例
产品特点：
PL-R-PC2000压印胶专为硅透镜晶圆级刻蚀工艺开发，支持旋涂、点胶、喷墨等多种涂布方式，兼容多种纳米压印设备，具备优异的图形复制精度。材料适配ICP-RIE标准硅刻蚀工艺，硅刻蚀选择比达到1:1，可实现高保真图形传递和光滑侧壁形貌。产品折射率为1.53，具有优异热稳定性，压印残余层薄且均匀，可直接作为硬掩模使用，有效简化硅透镜晶圆级量产流程。该材料适用于PSS、硅微透镜阵列等微纳光学器件制造，具备宽工艺窗口和优异批次一致性，为高性能光学器件规模化制造提供可靠材料支撑。
图7：生物芯片压印结果
产品特点：
PL-R-B1000 是面向生物微流控、基因检测赛道定制的专用压印胶，拥有优异生物相容性，无细胞毒性，适配核酸扩增、生物探针固定等生物实验场景。材料耐乙醇、缓冲液、有机溶剂等各类生化试剂浸泡，长期接触试剂无溶胀、无析出，不干扰生物检测信号，保障实验数据稳定可靠。支持旋涂、喷墨、点胶多种涂布工艺，适配多种纳米压印设备，微通道、微孔阵列等微纳结构复刻精度高，成型后表面平整无缺陷。可配套常规干法刻蚀工艺加工微流控芯片，加工流程简单、批次重复性强。可用于基因测序芯片、生物传感、微流控载体，为体外诊断、分子检测提供可靠的微纳加工材料解决方案。
璞璘科技(杭州)有限公司成立于2017年，是一家专注于纳米压印技术的纳米压印高端微纳制造商。主营业务包括纳米压印设备、纳米压印材料、下游应用开发等。服务下游行业包括半导体、消费电子、车载电子、生命科学、新能源等众多行业。
创始团队师从纳米压印技术发明人，美国工程院院士Stephen Chou，创始团队深耕纳米压印技术行业二十余年，是目前国内最具特色的纳米压印技术团队。璞璘科技已被评为国家高新技术企业、浙江省科技型中小企业、浙江省企业研究院、杭州市企业高新技术研究开发中心、杭州市博士创新站等荣誉称号，申报知识产权近百余项。
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