德国蔡司集团是全球半导体产业链上的关键供应商。该集团半导体事业负责人弗兰克・罗蒙德（Frank Rohmund）日前在接受彭博电视采访时表示，中国在研发尖端芯片制造设备方面大约落后 15 年。他认为，中国要开发出极紫外（EUV）光刻机需要 15 年，这是一个 "合理的假设"。
在中美竞相研发最先进人工智能（AI）模型的背景下，美国正试图阻止中国获得性能最高的 AI 芯片，半导体制造技术正是这一努力的主要目标。美国已禁止荷兰ASML向中国出口最先进的设备，而ASML正是蔡司半导体业务的股东。与此同时，中国也在向国内产业投入巨资，力争实现半导体自给自足。
蔡司是ASML EUV 光刻机所用光学系统的独家供应商，而ASML目前是全球唯一能够制造此类设备的企业。EUV 技术对于生产英伟达人工智能加速器所用的最先进芯片至关重要。
在罗蒙德作出上述估计之前，由弗朗索瓦 - 格扎维埃・布维尼（Francois-Xavier Bouvignies）领衔的瑞银分析师本周也曾撰文指出，中国开发出国产 EUV 技术很可能至少还需要 10 年。
出口管制与 DUV
中国是ASML上一代深紫外（DUV）光刻机的主要市场之一。美国还规定，ASML若干技术更先进的浸没式 DUV 机型对华出口须取得许可。
罗蒙德认为，若将出口管制扩大到较旧的 DUV 设备，将不利于企业经营。他说："我们不相信这些出口限制会带来正面效果，因为这反而会加速中国的创新。"
中国进展与蔡司的判断
中国在制造浸没式 DUV 光刻设备方面已取得进展。科技媒体《The Information》今年 7 月引述知情人士报道称，一家总部位于上海的企业已在制造此类设备。
罗蒙德谈到近期有关进展的报道，他说："这其实并不令人意外，现在需要看这些设备的实际能力究竟如何。" 他补充道："我们仍然遥遥领先。（We are still way ahead.）"
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