【IDAS 2026 峰会 · 回顾】 | 九同方成功承办 IDAS 2026「电磁热力光仿真技术论坛」,共探后摩尔时代多物理场创新之路

EDA平方 2026-09-07 18:35
本文转载自公众号:九同方技术有限公司

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9 月 1 - 2 日,IDAS 2026 设计自动化产业峰会于上海张江科学会堂隆重举办。由上海九同方技术有限公司承办的电磁热力光仿真技术论坛,于 9 月 1 日下午圆满召开。


本次专题论坛汇聚国内多物理场仿真、先进封装 EDA 领域顶尖专家、产业链上下游企业、科研院所代表,围绕后摩尔时代、τ(韬)定律背景下芯片电磁-热-力-光协同仿真技术难点与产业落地展开深度研讨。

01
大咖云集,共话多物理场仿真新未来
本次分论坛设于张江科学会堂 3F 会议室 302,13:30 正式启幕。整场论坛议程紧凑、干货满满。来自九同方、格宇软件、立芯软件、云道智能、行芯科技、启云方科技、弘快科技等多家企业的十余位技术专家轮番登台,带来前沿技术实践分享。


论坛由九同方副总经理周海涛致开场辞,以《后摩尔时代下的电磁热力光场仿真概述》拉开本次论坛帷幕。

在后摩尔时代,传统工艺缩微逐渐逼近物理极限。伴随着 3DIC 堆叠、Chiplet 异构集成技术快速普及,芯片电磁、热、力学、光学多物理场耦合效应问题日益凸显,多物理场仿真已经成为先进芯片设计签核不可或缺的关键环节


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随后,九同方内部专家依次登台,带来多项自研技术成果分享:
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✅ 贾平昊|九同方高级算法专家

韬定律下跨尺度电磁问题的高效求解方法》

 针对跨尺度电磁仿真求解瓶颈,分享高效求解算法的技术突破。













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✅ 武云鹏|九同方 CAE 结构产品总监

《九同方电磁-热-力-仿真之应力仿真软件 sDyna—— 预见形变,护航良率》 

介绍九同方自研应力仿真工具,通过提前预判芯片形变风险,保障先进芯片量产良率。













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✅ 张子静|九同方光学产品经理

《从多物理场到系统仿真:AI 时代下光电设计自动化的挑战与机遇》 

探讨 AI 赋能光电系统仿真、设计自动化的发展方向。













本次论坛更有幸邀请到行业内多家标杆企业专家登台,从网格生成、电源完整性、三场协同、τ‑Aware 签核、AI 赋能 EDA、封装一体化底座等不同赛道分享宝贵实践经验:

单菊林
上海格宇软件有限公司 总经理
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🔹 《面向多物理场分析的网格生成引擎》 

解读高精度网格生成技术对多物理场仿真精度与效率的核心价值。


李骥
上海立芯软件科技有限公司 副总裁
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🔹 《面向多物理场分析的网格生成引擎》 

解读高精度网格生成技术对多物理场仿真精度与效率的核心价值。


马祖辉
北京云道智能科技股份有限公司 电磁产品线负责人
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🔹 《一次仿真,全面收敛:电-热-力三场协同,让先进封装从 “堆叠” 走向 “融合”》 

分享电-热-力三场耦合协同仿真在先进封装领域的落地方案。


刘客
杭州行芯科技有限公司 解决方案总监
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🔹 《τ-Aware Signoff—— 从单点仿真到耦合闭环》 

围绕 τ 定律,解读多物理场耦合闭环签核技术思路。


李方
启云方科技有限公司 解决方案总监
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🔹 启云方 AI+EDA 技术助力企业数智化转型》 

探讨人工智能赋能 EDA 全流程,加速产业数字化升级。


王战义
上海弘快科技有限公司 副总经理
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🔹 封装设计-仿真-制造一体化 AI 数据底座》 

分享封装全链路一体化数据平台建设思路。

现场交流氛围热烈,参会工程师与各位嘉宾围绕项目实操难点、工具选型、技术路线等议题深度交流,产学研思想充分碰撞。论坛尾声设置抽奖互动环节,现场气氛高涨。

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02
以仿真为底座,共建国产 EDA 生态

作为本次分论坛承办方,九同方长期深耕电磁-热-力-光全栈多物理场仿真 EDA 赛道。本次承办电磁热力光仿真专题论坛,是九同方推动国内多物理场仿真技术交流、搭建国产 EDA 产学研生态平台的重要实践。

未来,九同方将持续打磨 eWave、eCPS、sDyna 等系列自主仿真工具产品,坚持技术创新,深化与产业链伙伴的协同合作,攻坚先进封装、3D 堆叠、高速芯片等场景下多物理场仿真技术难关,助力国产集成电路产业高质量发展。

IDAS 2026 峰会已圆满落下帷幕。

九同方期待未来继续与行业同仁携手同行,致远共进!


IDAS 2026 设计自动化产业峰会

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END
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九同方技术有限公司创立于2011年11月,由源自硅谷的多名留美博士组成核心研发团队,形成海内外研发梯队,在打造“精度比肩和速度超越”的片上电磁仿真工具的同时,继续聚焦电磁的“全尺寸”和“多物理场”仿真两个领域,并致力为客户提供“芯片-封装-系统”全尺寸场景下的最优电磁场解决方案。

携手全球行业龙头用户的设计案例,融合芯片设计、制造和封装各个环节,对标国际标杆产品,逐次打造“精度比肩和速度超越”的替代产品。

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