新凯来、中微公司、北方华创同台竞技！这届湾芯展，究竟有哪些看点？

电子发烧友网报道（文/席安帝）在当下这个全球晶圆厂大扩产的时代，位居产业链上游的半导体设备与材料厂商，成为了这波行情中最大的受益者。

根据SEMI预测显示，全球半导体制造设备市场正进入由AI算力、先进逻辑和存储扩产共同驱动的新一轮上行周期。2025年，全球半导体设备销售额为1347亿美元，预计在2026年将达到1659亿美元，同比增长23.2%，并有望在2028年达到2295亿美元，2025—2028年复合增速约为19.5%。

半导体材料方面，受上游原材料供应吃紧影响，不少半导体材料市场也纷纷开启了涨价潮。以光刻胶赛道为例，自2026年10月1日起，日本JSR、东京应化、信越化学宣布正式执行全新定价体系。全品类光刻胶基础涨幅约15%，其中 ArF 系列长协上调16%-22%，适配 HBM 的浸没式 ArF 光刻胶最高涨幅达到24%，现货散单涨幅更是达到32%-38%，KrF光刻胶涨幅区间落在9%-20%。

这也让全球半导体设备与材料厂商进入了新一轮的业绩飙涨周期，尤其是国内厂商，在这波行情中已赚得盆满钵满。2026年10月14-16日的湾芯展期间，包括日本DISCO、住友化学、新凯莱、中微公司、北方华创、华海清科、上海微电子、盛美上海、拓荆科技、中科飞测、江丰电子、新莱应材等一众国内外领先半导体设备和材料企业纷纷亮相，集中展示了覆盖从薄膜沉积、清洗、离子注入、刻蚀、光刻、探针台到外延片、抛光片、高纯铟箔、高纯铟、溅射靶材等领域的半导体设备与材料产品。

探针台、晶圆机械手、光刻机齐亮相，国产半导体设备正加速崛起

受益于全球晶圆厂扩产潮，今年上半年各大半导体设备厂商业绩均表现不俗，尤其是国内半导体设备龙头企业的业绩涨势喜人。比如龙头企业北方华创今年上半年营收达到201.61亿元，同比增长24.90%；归母净利润33.70亿元，同比增长5.5%。其营收的增长主要原因是公司集成电路装备领域刻蚀、薄膜沉积、热处理、湿法、清洗、离子注等多款设备市占率稳步提升，工艺覆盖度及市场占有率增长。

中微公司凭借其在刻蚀、薄膜沉积等核心设备领域的深厚技术积累，实现了业绩的跨越式增长，上半年营收为66.91亿元，同比增长34.89%；净利润达到28.25亿元，同比大幅增长300.22%。

在AI与高性能计算驱动的全球半导体扩产周期中，盛美上海凭借其清洗设备、半导体电镀设备等前道半导体工艺设备领域的深厚积累与平台化战略的持续推进，实现了经营业绩的稳健增长，上半年的营收为37.18亿元，同比增长13.87%；净利润达到9.89亿元，同比增长42.14%。今年上半年，盛美上海新签订单同比增长105%，存储、逻辑、先进封装三个领域均呈现稳健增长。

湾芯展期间，这几家国内半导体设备领头羊也均亮相展会。其中，中微公司的展台人气颇旺，虽然产品都是以模型的方式展示，但依然吸引了大量观众。中微公司本次展示了包括其为逻辑和存储芯片中金属钨填充提供的高性价比设备Preciomo Uniflex CW、为Micro LED新型显示生产提供的MOCVD外延设备Preciomo Udx，以及专用于NAND和DRAM芯片制造领域的刻蚀设备等多款产品。

湾芯展中微公司展台（电子发烧友网摄）

据悉，目前中微公司现有54种高端半导体设备产品，还将开发包括等离子体刻蚀设备、化学薄膜LPCVP、ALD、PVD、PECVD设备、硅和锗硅EPI外延设备、光学量测设备、电子束量测设备、MOCVD设备和大平板设备等。在近3-5年，中微公司还将累计开发102个新设备，研发总投入将高达近130亿元。

除了中微公司之外，新凯来作为本届湾芯展最有流量的展商之一，也通过产品模型的方式对外展出了多款半导体设备产品。比如在刻蚀设备领域，新凯莱的ETCH（武夷山）设备能够进行精细介质刻蚀、高深宽比介质孔刻蚀、精细硅/金属刻蚀、高选择性刻蚀等多种刻蚀，其原理是通过干法刻蚀设备在真空环境中产生等离子体，再借助等离子体与晶圆间的复杂物理化学作用，在微纳尺度中去除材料。

湾芯展新凯莱公司展台（电子发烧友网摄）

另如新凯来的扩散设备“峨眉山”（EPI设备）和“三清山”（快速热处理RTP设备）：其中峨眉山这款设备能够提供锗硅外延生长、磷硅外延生长、沟道及超晶格外延生长等多种功能。而三清山这款RTP（快速热处理）设备能够提供栅极氧化/氮化、均温/尖峰退火、超快尖峰退火等多种功能，其工艺原理主要是通过快速升降温以及精准控温的方式完成高质量氧化膜生长、离子激活以及金属硅化物形成等工艺。

湾芯展新凯莱公司刻蚀及扩散设备产品介绍（电子发烧友网摄）

作为以半导体设备为核心的展会，自然不能少了光刻机。上海微电子装备（集团）股份有限公司在本届湾芯展上带来了其I-line扫描投影光刻机以及各种光刻机零部件产品。其I-line扫描投影光刻机可满足IC前道280nm及以上的I-line光刻制程，搭载自主研发的国产大视场曝光系统，能够实现四倍的曝光视场，在大幅提升产能的同时，更可持续保障优异的分辨率与顶尖的套刻精度。此外，这款设备还搭载了上海微电子自研的国产自适应双工件台系统，兼容不同厚度、翘曲度与重量的晶圆，兼顾工艺适配能力，可同步提升产能。

上海微电子I-line扫描投影光刻机产品（电子发烧友网摄）

除了以上几家半导体设备领军企业之外，还有包括国产电机龙头汇川技术展示了其能够覆盖光刻、刻蚀、镀膜、清洗等全工艺环节的晶圆机械手设备，华卓精科展示的精密运动平台与静电卡盘、拓荆科技展示的PECVD设备PF-300M Supra-D、日本DISCO展示的8英寸晶圆半自动切割机、中科精工展示的全自动探针台FF3000L等。

从靶材、衬底到高纯铟，国产材料厂加速算力金属布局

在半导体领域，靶材主要是用于晶圆导电阻挡层及芯片封装金属布线层制作，其核心作用是为芯片构建用于传递信息的金属导线，其具体溅射过程需在高真空环境下完成——首先通过高速离子流对不同类型的金属溅射靶材表面进行轰击，使靶材表面的原子以层状形式沉积在半导体芯片表面，形成金属薄膜；随后借助特殊的精密加工工艺，将芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属导线，最终实现芯片内部数以亿计微型晶体管的相互连接，从而达成信号传递的功能。

从材质分类来看，半导体芯片制造领域常用的金属溅射靶材主要包括两大类：一是高纯溅射靶材，如铜、钽、铝、钛、钴、钨等；二是合金类溅射靶材，典型代表为镍铂合金、钨钛合金等。

本届湾芯展上，有不少国内半导体材料厂商展示了各种类型的靶材产品。以阿石创为例，作为国内高端溅射靶材赛道的龙头企业之一，阿石创本次展出了包括ITO靶材、钨钛靶材、钼硅靶材、钼靶材以及硅靶材等高端溅射靶材产品，目前已深度导入半导体晶圆制造与封测领域。

湾芯展上阿石创展示的ITO靶材与钨钛靶材产品（电子发烧友网摄）

除了靶材之外，算力金属铟也是今年半导体材料领域的一大热点。铟属于稀有金属，是当前光器件生产不可或缺的原材料，全球约 90% 原生铟均为锌冶炼过程中的伴生副产品，铟原料供给无法跟随光电行业需求单独扩产，整体产量上限绑定锌矿开采与冶炼规模。目前，我国精炼铟产能占据全球总量约 70%；2025 年 2 月商务部、海关总署将磷化铟相关材料及配套生产技术纳入出口管制清单后，海外企业获取高纯铟原料的采购成本与准入门槛同步抬升。

湾芯展上欧莱新材展示的高纯铟产品（电子发烧友网摄）

在本届展会上，国内半导体材料龙头企业欧莱新材展示了不同纯度的高纯铟产品，包括7N超高纯铟、6N5高纯铟、6N高纯铟等。据悉，6N-7N超高纯铟是化合物半导体常用的高纯原料规格，用于磷化铟单晶衬底、MOCVD 三甲基铟前驱体，6N、7N 描述的是产品质量。具体纯度要求按产品规格确定，6N 表示名义纯度 99.9999%，7N 表示名义纯度 99.99999%，是制备磷化铟多晶的关键材料。

其他半导体厂商展示的产品则包括外延片、抛光片以及晶振片等等，比如中环领先现场展示了其直拉重掺背封硅外延片（N型）以及SOI硅片，中欣晶圆展示的8英寸重掺厚片、8英寸轻掺抛光片以及12英寸外延片等等，都是本次展会上半导体材料展区颇具人气的产品。

小结

从本届湾芯展上，新凯莱、中微公司、北方华创等半导体设备商，以及阿石创、欧莱新材、中欣晶圆等半导体材料企业的展品来看，虽相比往年变化不大，但依然显示出中国半导体设备与材料厂商加速推动先进设备与材料的国产替代的决心。尽管短期之内，国内的产品相比海外竞争对手而言仍存差距，但不远的将来，或许并无不可能看到如国产先进制程光刻机等高端设备亮相展会，届时，中国半导体与芯片产业也将真正崛起，并引领世界半导体产业向更高水平发展。

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