
三星电子已决定采用全球最大晶圆代工厂——台积电(TSMC)的制造工艺,来生产“基础裸片”(base die)。该组件是三星正在为英伟达(NVIDIA)开发的下一代定制化高带宽内存(HBM)中的核心部分。此前,三星一直自行完成HBM的全部生产工作,涵盖了作为存储芯片的“核心裸片”(core die)以及充当系统半导体功能的“基础裸片”。为了满足英伟达的技术要求,三星正在改变其以往“全包式”(turnkey)的生产模式。

据业内消息人士10月18日透露,英伟达已要求其HBM供应商——三星电子、SK海力士(SK Hynix)和美光(Micron)——在生产“NVHBM”(英伟达于今年8月发布的一种定制化HBM解决方案)时,使用台积电的3纳米(nm)工艺来制造基础裸片。此外,英伟达还要求核心裸片采用第6代DRAM工艺(即1c工艺)进行标准化生产。NVHBM基于下一代HBM标准——HBM4E的架构。
英伟达提出这一要求的原因在于,如果各家HBM供应商采用不同的制造工艺,将难以确保最终产品在性能上保持一致。同时,这种做法也减轻了英伟达针对不同供应商分别进行产品验证的负担。经过内部评估,三星电子负责半导体业务的“设备解决方案”(DS)部门(该部门旗下也包含三星自有的晶圆代工业务)决定接受英伟达提出的要求。
尽管三星电子曾于四年前与台积电合作,确保其HBM产品与台积电的封装工艺相兼容,以便集成至图形处理器(GPU)中,但此次合作标志着双方首次在HBM的实际制造阶段展开携手。对于标准版HBM产品,三星仍计划维持其“全包式”的生产策略。对于已于今年早些时候率先实现全球量产的第六代HBM4,以及目前正处于量产验证阶段的第七代HBM4E,三星电子均采用其自有的4nm代工工艺来制造基础裸片(base dies)。这两款产品的核心裸片(core dies)也由三星电子负责生产,所用产线为其位于华城(Hwaseong)和平泽(Pyeongtaek)园区的1c工艺生产线。
三星电子计划针对AMD等客户所定制的HBM产品,继续沿用“交钥匙”(turnkey)式的一站式服务模式。此外,三星电子也并未排除利用自身代工业务来开发和生产NVHBM(即面向英伟达的定制化HBM)的可能性。一位业内人士指出:“三星目前正在评估是否能利用自有的代工产线为NVHBM制造基础裸片。”该人士补充道,此举可作为一种应急方案,以应对NVHBM需求超出台积电(TSMC)产能的情况。

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