电子发烧友网综合报道,近日,韩媒报道:长期各自为战、互为对手的三星电子与台积电,将在下一代HBM的实际制造阶段首次联手,为英伟达的定制内存NVHBM生产核心组件。消息一出,业内人士戏称此为“破天荒”的合作。此次合作生产的关键,是HBM的“基础裸片”(base die)。三星决定采用台积电3纳米工艺制造这一组件,服务于正在为英伟达开发的下一代定制化HBM——NVHBM。NVHBM基于第七代标准HBM4E架构,其核心设计是把英伟达自研内存控制器集成进基础裸片,使其从单纯的连接层升级为承担定制逻辑功能的系统半导体。相比标准HBM4E,NVHBM可提供高出约30%的内存带宽、功耗降低约15%。此前三星长期坚持“交钥匙”全包模式,HBM4与HBM4E的基础裸片均用自家4纳米代工工艺,核心裸片则来自华城、平泽园区的1c产线。尽管四年前,三星曾和台积电就封装兼容有过协作,但此次标志着二者首次在HBM制造环节直接携手。合作的动因有二:一是来自英伟达的硬性要求,二是NVHBM需求巨大,三星需要临时借力台积电的先进制程。真正推动这场联手的,是英伟达自上而下的标准化诉求。英伟达已同时向三星、SK海力士与美光三大供应商提出统一规格——生产NVHBM时,基础裸片一律采用台积电3纳米工艺,核心裸片统一使用代号1c的第六代DRAM工艺。英伟达为何会提出这个要求?主要还是为了推进产品和生产环节的“一致性”:若各家采用不同制造工艺,同一套设计便难以保证最终产品性能稳定统一;而把基础裸片锁定在单一平台后,英伟达无需再针对每家供应商单独开展样品验证,大幅节省时间与资源。值得注意的是,SK海力士本就采用专业分工模式、将HBM4基片交给台积电代工,英伟达所做的,只是把这条路径推广为全行业的统一标准。此次合作,或许会对行业带来不同的影响。例如竞争格局出现变化,代工龙头与存储巨头走向“制造协同”,台积电在先进制程上的优势地位被进一步巩固。此外,台积电的3nm 产能也可能随之成为 HBM4E 时代产业链层面的共同瓶颈。当然三星并未放弃自主:据报道,三星内部在验证用自有产线制造NVHBM基础裸片的可行性,作为台积电产能不足时的备份;标准HBM及面向AMD等客户的定制产品,则继续维持全包模式。从财务看,HBM业务正成为改善三星代工业绩的关键——2025年,三星代工部门亏损为6.74万亿韩元,到了2026年,已经亏损仅为3.92万亿韩元,降幅约41%,并且在今年6月实现了自从2023年以来的首次月度盈利。三星与台积电此次合作,不仅仅是一笔代工订单,也是 AI 算力供应链上一次静悄悄的重排。可以期待的是,在英伟达高价值AI供应链的“入场券”面前,类似的跨界联手或将越来越多。声明:本文由电子发烧友综合报道,转载请注明以上来源。如需入群交流,请添加微信elecfans999,投稿爆料采访需求,请发邮箱wuzipeng@elecfans.com。更多热点文章阅读点击关注 星标我们将我们设为星标,不错过每一次更新!喜欢就奖励一个“在看”吧!