英伟达展示OOI光互连原型,硅中介层成为下一代CPO焦点

半导体产业研究 2026-10-26 15:51
英伟达展示OOI光互连原型,硅中介层成为下一代CPO焦点图1

英伟达在SEMICON West 2026展示“中介层光学”(Optics-on-Interposer,OOI)原型,将光引擎从传统共封装光学(CPO)方案中的有机封装基板,移至承载计算芯片的硅中介层。该设计旨在缩短光电转换前的电信号路径,提高互连带宽密度并降低能耗,面向更大规模AI系统的长期需求。目前展示的是研发进展,英伟达尚未公布OOI的商用时间表或量产性能数据。

英伟达展示OOI光互连原型,硅中介层成为下一代CPO焦点图2

把光引擎放到更短的电连接路径上

在传统方案中,计算芯片与光引擎之间的电信号需要经过硅中介层和有机封装基板。OOI把光引擎进一步靠近计算芯片,利用中介层短距离、细间距的布线连接两者。其思路与GPU和高带宽内存(HBM)在同一中介层上实现高密度互连相近,但光电转换、光纤耦合和散热提出了额外要求。这里改变的是光引擎的位置与电连接路径,并不意味着整套封装不再需要有机基板。

英伟达研究团队早在2023年就提出在硅中介层集成光学器件的2.5D方案,认为密集布线有助于采用更宽、单通道速率较低的电接口,同时指出热环境和封装设计是关键挑战。此次原型使这一路线更具体,但尚不能据此推算商业产品的带宽或每比特能耗。

OOI与波分复用,分别处理链路两端

英伟达同期讨论的密集波分复用(DWDM)侧重让一根光纤承载多个波长,以增加光纤侧容量;OOI则侧重压缩芯片到光引擎之间的电连接距离。两者可互补,却不能混为同一项原型指标。英伟达在2026年光纤通信大会发表的256 Gb/s光I/O实验,属于三维堆叠电子与光子集成电路平台上的DWDM研究结果,不能直接视作本次OOI原型的实测速率。

现有CPO扩产与下一代研发并行

商业部署已经沿另一条路径推进。英伟达披露,面向Vera Rubin平台的Spectrum-X以太网光子交换系统已进入生产阶段,采用共封装光学技术。供应链扩容也有明确目标:矽品精密(SPIL)计划到2027年年中将CPO光引擎产能提高至原来的15倍;英伟达与Amkor计划到2028年底将中介层晶圆产能提高逾300%。这些计划服务于现有及后续平台的产能需求,不能解读为OOI已获得量产排期。

从原型走向产品,还须验证光引擎靠近高热负载计算芯片后的温控能力、光学耦合精度、封装良率、长期可靠性及维修方式。中介层集成可能压缩电互连损耗,却也把光学器件纳入更复杂的先进封装流程,制造成本与故障责任因此需要重新评估。

2028年平台尚未确定采用OOI

英伟达公开路线图将Feynman架构放在2028年前后,并展示继续扩展CPO互连的方向,但未宣布Feynman GPU或相关网络产品采用OOI。对光引擎、激光器、封装与测试供应商而言,眼下的重点是兑现现有CPO产能和可靠性,同时为硅中介层上的光学耦合技术储备工艺。OOI能否成为下一阶段主流,最终仍取决于整机带宽、功耗、良率和总拥有成本的联合验证。

原文标题:Nvidia unveils OOI CPO prototype for post-2028 AI needs
原文媒体:DIGITIMES
           







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