荷兰记者揭秘中国ASML光刻机底牌：800台存量设备构筑芯片战缓冲带

【区角快讯】当外部技术封锁的闸门逐渐收紧，中国半导体产业在设备端的战略储备显得尤为关键。据长期追踪ASML的荷兰科技记者马克·海金克最新研判，中国在全面出口管制落地前，已秘密囤积了规模庞大的光刻机集群，这为后续的技术突围提供了宝贵的设备缓冲期。海金克基于多年跟踪调查估算，目前中国境内部署的ASML光刻机总数约达800台。值得注意的是，这一数据虽非官方统计，但指向性明确：其中半数由中国本土企业持有，另一半则分布于三星、SK海力士等外资在华工厂内。这种集中采购策略，主要得益于EUV被禁而DUV尚存采购窗口的特殊时期。

凭借这些存量DUV设备，中国厂商通过多重曝光技术，在2022年成功实现了等效7nm工艺的芯片制造，并于次年将其应用于国产5G手机终端。尽管该路径面临良率与成本的双重高压，但在缺乏EUV的现实约束下，它无疑是争取时间的核心手段。然而，局势并未静止。2024年，荷兰政府部分撤销了对NXT:2050i及2100i型号的对华出口许可，美国随后更试图将管控延伸至存量设备的维保服务，意图从根源上限制已交付设备的长期运行能力。

外部压力的加剧反而加速了国产替代进程。回顾2018至2019年，海金克曾随ASML时任CTO马丁·范登布林克考察上海某工厂，彼时中方产品仍停留在90nm节点，但研发蓝图已锁定28nm浸润式系统。海金克评价称，中国科技路线常以极具创造力且难以预测的方式推进。这800多台设备提供的仅是时间窗口，而非最终答案；决定持久战走向的关键，在于国产光刻机能否迅速跨越从90nm到28nm乃至更先进节点的鸿沟。