11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。
上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
SMEE官网显示：
lSSB800（I-line）系列扫描投影光刻机致力于覆盖280nm及以上的典型光刻制程。设备以高产率与强工艺适应性为核心价值，为半导体产业提供稳健的基础工艺保障。其应用范围广泛覆盖了功率半导体、模拟集成电路、微机电系统（MEMS）等成熟制程制造领域，是实现大规模、高稳定性生产的理想选择。
lSSC800（KrF）系列扫描投影光刻机针对110nm及以上的精细化制程需求提供进阶解决方案。该系列通过对曝光精度、畸变控制及套刻性能的全面升级，实现了更高的工艺维度。设备重点服务于AI高性能计算、高密度存储（DRAM/NAND Flash）、微处理器以及Micro LED等前沿制程领域，助力客户攻克更高精度的芯片制造难题。
本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%，形成自主技术可控、国产替代落地、产业链安全可靠的核心优势，可全面支撑半导体、泛半导体产业发展需求。
SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。公司始终锚定产业技术前沿，坚持自主创新深耕与产业链协同联动并行，与上下游供应链、行业伙伴深度协作，携手构建开放良性的半导体产业生态，在实现自身稳健运营的同时，持续为我国半导体产业高质量升级提供核心装备支撑。
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