俄自研130nm光刻机完成三阶段验收，核心光源实现国产化突破

【区角快讯】在半导体设备自主化的漫长赛道上，俄罗斯近日迈出了关键一步。据CNews披露，该国用于制造130纳米制程芯片的光刻机项目，其第三阶段设计验收工作已正式收官。这份具有里程碑意义的验收证书，签署日期定格在2026年8月7日。

这款备受关注的设备，由“泽列诺格勒纳米技术中心”（ZNTC）携手白俄罗斯“普拉纳尔”公司共同研发。其核心使命，是将集成电路的拓扑图形精准投影至直径200毫米（即8英寸）的半导体晶圆表面。在超大规模集成电路（VLSI）的生产流程中，该设备承担着多重投影复制的重任，设计指标直指130纳米工艺节点。

回顾研发历程，波折难免。按照原定计划，ZNTC本应在2026年3月交付第三阶段成果，但实际进度延宕至同年8月才最终落地。目前，该装置的基础工艺调试工作已全部完成。值得注意的是，验收文件特别强调，这台俄制光刻机具备“独特特征”：它摒弃了对外部供应链的依赖，转而采用自主研发的193纳米准分子激光器作为光源，并大量集成国产零部件与半导体材料，从而成功达到了预期的分辨率标准。

在项目执行层面，ZNTC不仅制造了两台波长为193纳米的准分子激光器原型，还配套生产了光掩模、测试结构以及用于监测光刻和像差特性的物镜测试台。资金流向显示，白俄罗斯“普拉纳尔”公司承担了装置开发（耗资1.496亿卢布）、机械部件制造（1.95亿卢布）及零件调试（超1亿卢布）等任务；而激光器则由“拉萨德”公司开发，投入达5亿卢布。累计支付给这两家合作伙伴的费用略超10亿卢布。

从成本结构看，光刻机本体制造估算成本为5.422亿卢布（约合650万美元），两台激光器的造价分别为4900万卢布和4600万卢布。科瓦廖夫指出，ZNTC主导了整体开发、测试台结构设计、物镜计算及工艺建模等核心环节。

这一突破对俄罗斯而言意义非凡。此前，全球仅荷兰ASML、日本佳能与尼康、中国上海微电子等少数企业掌握此类光刻机生产技术。早在2025年初，ZNTC已交付首台350纳米分辨率光刻机给Element Group旗下公司，并开发了150纳米电子束光刻设备规范。如今130纳米步进式光刻机原型的问世，标志着俄罗斯在该领域实现了从无到有的跨越。